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device isolation techniqueとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 装置絶縁技術
「device isolation technique」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
To provide a semiconductor device whose reliability is improved by providing a trench isolation technique by which formation of a side product such as a nitride is prevented.例文帳に追加
窒化物などの副次的な構成物の形成を防止したトレンチ分離技術を提供し、以て信頼性を向上させた半導体装置を提供する。 - 特許庁
Especially, this isolation technique includes operation or isolation of a piezoelectric material layer between the devices, in order to restrain the quantity of acoustic energy which leaves the device and propagates in the lateral direction.例文帳に追加
特に、この分離技術は、該デバイスから離れて横方向に伝搬する音響エネルギーの量を制限するために、該デバイスの間における圧電材料層の操作または分離を含む。 - 特許庁
To provide a technique, as to a semiconductor device which is formed on an SOI substrate and in which a periphery of an element region of a semiconductor layer constituting the SOI substrate is enclosed by element isolation, capable of preventing deterioration of reliability caused by the element isolation.例文帳に追加
SOI基板に形成され、SOI基板を構成する半導体層の素子領域の周囲が素子分離により囲まれた半導体装置において、素子分離に起因する信頼度の低下を防ぐことのできる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a countermeasure technique for safely and reliably transmitting supporting reaction to upper structures during work for the base isolation of a structure when installing a temporarily supporting jack or a base isolation device on a position of bias from a column to support the vertical load of the upper structures.例文帳に追加
構造物の免震化工事において、柱から偏倚した位置に仮受けジャッキ又は免震装置を設置して上部構造の鉛直荷重を支持させる場合に、その支持反力を上部構造へ安全、確実に伝達させる対策工法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of enhancing driving force of a transistor by reducing stress lowering the driving force of the transistor based upon stress received from an element isolation region and further employing strain silicon technique.例文帳に追加
素子分離領域から受ける応力に基づいた、トランジスタの駆動力を低下させる歪みを緩和し、さらに、歪みシリコン技術を用いることでトランジスタの駆動力を向上させることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a high-reliability device configuration by achieving secure element isolation by a simple technique minimizing the increase of processes without causing warpage in a substrate nor degrading crystallinity of a compound semiconductor layer on the upper side of the substrate.例文帳に追加
工程増を最小限とした簡便な手法で、基板に反りを生ぜしめることなく、また基板上方の化合物半導体層の結晶性を損なうことなく確実な素子分離を実現し、信頼性の高い装置構成を得る。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device improved so that a parasitic MOSFET may not be formed even when a Mesa type isolation technique or an STI isolating method is applied to form a MOSFET in an SOI layer.例文帳に追加
SOI層にMOSFETを形成するためにMesa型分離技術、或いはSTI分離法を適用した場合でも、寄生MOSFETが形成されないように改良された半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
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「device isolation technique」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
To control vibration applied to a building, which widely ranges from steady micro vibration such as traffic vibration and environmental vibration to earthquake motion, by integrating an active vibration control device using a piezoelectric element into a base isolation technique.例文帳に追加
免震技術に圧電素子を用いたアクティブ制震装置を組み込み、建造物に掛かる交通振動・環境振動などの定常的な微振動から地震動まで広範囲の振動を制御する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which there is offered a technique capable of raising a bonding property of the semiconductor device, by forming an element isolation film and a gate line after forming a polysilicon layer for plug especially including a dopant on a semiconductor substrate, and capable of simplifying a process.例文帳に追加
本発明は半導体素子の製造方法に関し、特に半導体基板上に不純物を含むプラグ用ポリシリコン層を形成したあと、素子分離膜とゲートラインを形成して半導体素子の接合特性を向上させることができ、工程を単純化することができる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a device and a method for machining a workpiece that allow quick and efficient machining and straightening of, for example, a workpiece such as a flange, constituting a base isolation member or the like, without requiring a skilled worker's technique, and further, achieve improvement in machining accuracy and the amount of straightening with respect to distortion and deflection of a steel material as a material to be machined compared with the conventional machining method.例文帳に追加
例えば免震部材等を構成するフランジ等のワークを熟練者の技術を必要とせず、短時間で効率的に加工・矯正することが可能であり、さらに、従来の加工方法に比べ、材料の鋼材の歪み・撓みに対する加工精度・矯正量が良好となるようなワーク加工装置およびワーク加工方法を提供する。 - 特許庁
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