ethoxyethylとは 意味・読み方・使い方

To provide a pharmaceutically useful anhydrous crystalline form of N-[1-(2- ethoxyethyl)-5-(N-ethyl-N-methylamino)-7-(4-methylpyridin-2-yl-amino)-1H- pyrazolo[4,3-d]pyrimidine-3-carbonyl]methanesulfonamide.例文帳に追加

医薬として有用な無水結晶形態のN-[1-(2-エトキシエチル)-5-(N-エチル-N-メチルアミノ)-7-(4-メチルピリジン-2-イル-アミノ)-1H-ピラゾロ[4,3-d]ピリミジン-3-カルボニル]メタンスルホンアミドの提供。 - 特許庁

The imidazolium salt is preferably one represented by general formula (1), wherein R^1 is a methoxyethyl group, ethoxymethyl group, methoxymethyl group or ethoxyethyl group; R^2 and R^3 are each a 1-6C alkyl group; R^4 and R^5 are each a hydrogen atom; and X^- is BF_4^-.例文帳に追加

一般式（１）において、Ｒ^１は、メトキシエチル基、エトキシメチル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基であり、Ｒ^２〜Ｒ^３は、炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ^４〜Ｒ^５は、水素原子であり、Ｘ^−は、ＢＦ_4^-としたイミダゾリウム塩が好適である。 - 特許庁

This nail cosmetic comprises a film-forming agent composed of one or more kinds of nitrocellulose and alkyd-1, a plasticizer composed of one or more kinds of acetyltributyl citrate, dibutyl phthalate and sucrose benzoate and a solvent composed of one or more kinds of acetone, butyl acetate, methyl ethyl ketone, isopropanol, butanol, ethoxyethyl acetate and ethyl acetate.例文帳に追加

皮膜形成剤が、ニトロセルロース、アルキッド−１のうち１種または２種で、可塑剤がクエン酸アセチルトリブチル、フタル酸ジブチル及び安息香酸スクロースのうち１種または２種以上からなり、溶剤がアセトン、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、イソプロパノール、ブタノール、酢酸エトキシエチル及び酢酸エチルのうち１種または２種以上からなるネイルアート用爪化粧料を提供するものである。 - 特許庁

Especially, a good cycle retention rate and a good initial discharging capacity are obtained when non-cyclic carbonate is a compound chosen from 2-methoxyethylmethyl- carbonate, 2-ethoxyethylmethyl-carbonate, 2-methoxyethylethyl-carbonate, 2- ethyoxyethylethyl-carbonate, 2-bis(ethoxymethyl)carbonate, and 2-bis(ethoxyethyl) carbonate.例文帳に追加

特に、非環状炭酸エステルが、２−メトキシエチルメチルカーボネート、２−エトキシエチルメチルカーボネート、２−メトキシエチルエチルカーボネート、２−エトキシエチルエチルカーボネート、ビス（２−メトキシエチル）カーボネート、ビス（２−エトキシエチル）カーボネートからなる郡より選択された少なくとも１種であるとサイクル保持率、及び初期放電容量が特に良好である。 - 特許庁

The intermediate compound is useful for a total synthesis of a vindoline of general formula A (R1 is H, OH, an alkoxy group, a benzenesulfonyloxy group or an alkylsulfonyloxy group; R2 is a 1,1- dimethylethoxycarbonyl group or acetyl group; R3 is an alkyl group; R4 is benzyl or a substituted benzyl group; R5 is H, a tetrahydropyranyl group, ethoxyethyl group, or the like).例文帳に追加

一般式Ａ（Ｒ^1はＨ、ＯＨ、アルコキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基。Ｒ^2は、１，１−ジメチルエトキシカルボニル基、又はアセチル基。Ｒ^3はアルキル基。Ｒ^4はベンジル又は置換ベンジル基。Ｒ^5はＨ，テトラヒドロピラニル基、エトキシエチル基等。）のビンドリンの全合成において有用な中間体化合物。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁