exposure mechanismsとは 意味・読み方・使い方

The exposure apparatus further includes various cleaning mechanisms for cleaning the immersion space forming member 30.例文帳に追加

露光装置は、液浸空間形成部材３０を洗浄する各種の洗浄機構を備える。 - 特許庁

To perform good exposure by matching the transporting speeds of photographic paper by pinching and transporting mechanisms arranged on the upstream side and downstream side of an exposure position with high accuracy.例文帳に追加

露光位置の上手側と下手側とに配置された挟圧搬送機構による印画紙の搬送速度を精度高く一致させて良好な露光を行う。 - 特許庁

A mask M held by exposure mechanisms 3A and 3B is brought into contact with a substrate W held by substrate holder mechanisms 3A and 3B of exposure processing parts 1A and 1B of an automatic exposure device and the substrate W is automatically exposed to a specified pattern through the mask W.例文帳に追加

自動露光装置１の各露光処理部１Ａ，１Ｂの基板ホルダ機構３Ａ，３Ｂに保持された基板Ｗに、各露光機構５Ａ，５Ｂに保持されたマスクＭを接触させ、このマスクＭを通して基板Ｗ上に所定のパターンを自動的に露光処理する。 - 特許庁

Exposure head displacement mechanisms 33, 34 and 40 are provided for changing the position of the exposure head 31 between a first position for exposure where the optical emission element approaches the photosensitive material 3 on the exposure stand 80, and a second position where the optical emission element moves away from the exposure stand 80.例文帳に追加

露光ヘッド３１を、光出射素子が露光台８０上の感光材料３に近接した露光用の第１位置と、光出射素子が露光台８０から離間した第２位置との間で位置変更する露光ヘッド変位機構３３，３４，４０が設けられている構成とした。 - 特許庁

This exposure device includes an LED head 10 arranged in a zigzag shape in a sub-scanning direction, and exposure adjusting mechanisms 30 for adjusting the height of an exposure position to an image carrier 20 are disposed on both sides of the LED head 10.例文帳に追加

副走査方向に千鳥状に配置されたＬＥＤヘッド１０を備え、ＬＥＤヘッド１０の両側には、像担持体２０に対して露光位置の高さを調整する露光調整機構３０を設ける。 - 特許庁

In the pattern projection aligner or a method therefor, a first exposure mechanism for creating a pattern with thin width, and a second exposure mechanism for creating a pattern with a line width thicker than that of the first exposure mechanism are provided, the relative positional relation between the first and second exposure mechanisms is detected, and pattern exposure is made, based on the detected positional relation.例文帳に追加

パターン露光装置または方法において、線幅の細いパターンの作製が可能な第１の露光機構と、該第１の露光機構よりも線幅の太いパターンの作製を行う第２の露光機構とを備え、該第１の露光機構と該第２の露光機構との相対位置関係を検出し、該検出した位置関係に基づいてパターン露光するように構成する。 - 特許庁

Then, the work Wb is held by work suction mechanisms 8 and 8' and moved in a direction orthogonal to a conveying direction by driving moving mechanisms 9 and 9' so that a 2nd exposure area in a 2nd may come to the projecting position on the stage 3.例文帳に追加

ついで、ワーク吸着機構８，８’により帯状ワークＷｂを保持し、移動機構９，９’を駆動してワーク帯状ワークＷｂを搬送方向と直交する方向に移動させ、第２列目の第２の露光領域が、ワークステージ３上の投影位置に来るようにする。 - 特許庁