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exposure monitorとは 意味・読み方・使い方
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「exposure monitor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 102件
WAVELENGTH MONITOR FOR LASER BEAM FOR EXPOSURE例文帳に追加
露光用レーザ光の波長モニタ - 特許庁
EXPOSURE SYSTEM, POLARIZATION MONITOR MASK AND POLARIZATION MONITOR METHOD例文帳に追加
露光システム、偏光モニタマスク及び偏光モニタ方法 - 特許庁
WAVELENGTH MONITOR DEVICE FOR LASER BEAM FOR SEMICONDUCTOR EXPOSURE例文帳に追加
半導体露光用レーザ光のための波長モニタ装置 - 特許庁
PHOTOMASK, FOCUS MONITOR METHOD, EXPOSURE MONITOR METHOD AND PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトマスク、フォーカスモニター方法、露光量モニター方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
EXPOSURE MONITOR MASK, EXPOSURE REGULATION METHOD AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
露光量モニタマスク、露光量調整方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
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「exposure monitor」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 102件
To highly sensitively and accurately monitor a deviation of focus position or a variation of the exposure of an exposure light source.例文帳に追加
露光光源の焦点位置ずれまたは、露光量変動を、高感度、高精度にモニターする。 - 特許庁
To provide an exposure apparatus which can easily monitor a status of fluid used for immersion exposure.例文帳に追加
液浸露光に使用される流体の状態を容易にモニタリングできる露光装置を提供する。 - 特許庁
RADIATION DISTRIBUTION MONITOR, RADIATION DETECTOR, AND EXPOSURE CONTROL SYSTEM例文帳に追加
放射線分布監視装置,放射線検出装置及び被曝管理装置 - 特許庁
MASK, MASK CONTAMINATION MONITOR METHOD, PROGRAM AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加
マスク、マスクコンタミネーションモニタ方法、プログラムおよび露光方法 - 特許庁
To provide an exposure system which can monitor a polarization direction of irradiation light.例文帳に追加
照射光の偏光方向をモニタ可能な露光システムを提供する。 - 特許庁
For exposing an optical sensor array 64, an exposure control part 78 starts the exposure of the optical sensor array and monitor PD 75 and the exposure of the optical sensor array is terminated with the output of a comparator 77 when an exposure level S72 from monitor PD reaches a target exposure level S71.例文帳に追加
光センサアレイ64の露光を行うには、露光制御部78が光センサアレイと同時にモニタPD75の露光を開始し、モニタPDからの露光レベルS72が目標露光レベルS71に達した時の比較器77の出力で光センサアレイの露光を終了する。 - 特許庁
The user can omit the operation to enter a monitor exposure command when he watches the image on the monitor 21.例文帳に追加
利用者は、モニタ21で映像を見るにあたって、モニタ露出指令を入力する操作を省くことができる。 - 特許庁
To precisely monitor variation in the exposure conditions (gap between an exposure amount and focus) in a product wafer level in a lithographic process.例文帳に追加
リソグラフィプロセスにおいて、製品ウェーハレベルで、露光条件の変動(露光量とフォーカスのずれ)を正しくモニタリングする。 - 特許庁
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