ildとは 意味・読み方・使い方

Next, a trench 108 is formed on the IMD and a via 106 is formed on the ILD.例文帳に追加

次いで、トレンチ１０８がＩＭＤに、またビア１０６がＩＬＤに形成される。 - 特許庁

Afterwards, a layer insulating film (ILD) 110 and an intra-metal insulating film (IMD) 112 are deposited.例文帳に追加

その後層間絶縁膜（ＩＬＤ）１１０および金属内絶縁膜（ＩＭＤ）１１２が堆積される。 - 特許庁

An LD1 outputs corresponding light according to a drive current ILD and a bias current IB.例文帳に追加

ＬＤ１は、駆動電流ＩLDとバイアス電流ＩB とに従って、対応する光を出力する。 - 特許庁

An additional insulating substance layer may be added to form an ILD (Interlevel Dielectric) layer (isolation between levels).例文帳に追加

ＩＬＤ層（レベル間の分離）を形成するために、さらなる絶縁物質層を加えてもよい。 - 特許庁

An ILD 7 is formed on a silicon substrate 1 formed with the titanium silicide film 5, and the ILD 7 is selectively removed to form a contact hole H.例文帳に追加

チタンシリサイド膜５が形成されたシリコン基板１上にＩＬＤ７を形成し、このＩＬＤ７を選択的に除去してコンタクトホールＨを形成する。 - 特許庁

Furthermore, even if characteristics of a semiconductor laser LD is varied, a drive current Ild of the semiconductor laser LD is compensated, and the differential amplifier 11 has a function for suppressing noise to a low level, the semiconductor laser LD is modulated stably.例文帳に追加

また半導体レーザLDの特性が変化しても半導体レーザLDの駆動電流Ildが補正され、差動増幅器１１はノイズを少なく抑える機能があるので、半導体レーザLDを安定して変調できる。 - 特許庁

In a preferable embodiment, the ILD the via level is formed with a low-k SiCOH material, and the ILD for the line level is formed with a low-k polymer thermosetting material.例文帳に追加

好ましい実施形態では、ビア・レベルのＩＬＤを低ｋ ＳｉＣＯＨ材料で形成し、ライン・レベルのＩＬＤを低ｋポリマー熱硬化性材料で形成する。 - 特許庁

The poly urethane foam has a density of 23-37 kg/m^3, a 25% ILD (12ϕ) hardness of 15-25 N, a 65% ILD (12ϕ) hardness of 43-75N, and a 25% CLD hardness of 30-40 KPa.例文帳に追加

ポリウレタン発泡体は、密度２３〜３７ｋｇ／ｍ^３、２５％ＩＬＤ（１２φ）硬度１５〜２５Ｎ、６５％ＩＬＤ（１２φ）硬度４３〜７５Ｎ、２５％ＣＬＤ硬度３０〜４０ＫＰａとする。 - 特許庁