infrared reflection spectrumとは 意味・読み方・使い方

The absorbance ratio (D_698/D_2850) obtained from the infrared absorption spectrum on the surface of the particle measured by an infrared spectroscopic analysis of the total reflection absorption is in the range of 0.4-5.0.例文帳に追加

全反射吸収の赤外分光分析により測定された粒子表面の赤外線吸収スペクトルから得られる吸光度比（Ｄ_698／Ｄ_2850）が０．４〜５．０の範囲にある。 - 特許庁

Reflected infrared rays are transmitted through the sample and pass the upper cassegrain 4 of about 15 magnifications and pass reflection mirrors 33 and 38 and are condensed to a small area by reflection mirrors 39, 40, and 41 and are introduced to an MCT detector 11 and are subjected to Fourier transform to become an infrared spectrum.例文帳に追加

反射した赤外光はサンプル１３を透過し、倍率約１５倍の上カセグレン４を通り、反射鏡３３、３８を通過し、反射鏡３９、４０、４１で小面積に絞られてＭＣＴ検出器１１に導入され、フーリエ変換されて赤外スペクトルになる。 - 特許庁

The infrared microspectroscopic apparatus and the near-field infrared microspectroscopic apparatus are provided with a visible optical system used to measure a Raman spectrum or to visually observe a sample, and a reflection/transmission means used to reflect one from among the infrared light and the visible light and to transmit the other.例文帳に追加

ラマンスペクトルを測定するため又は試料を目視観察するための可視光学系と、赤外光及び可視光の一方を反射し他方を透過する反射／透過手段を備えた赤外顕微分光装置及び近接場赤外顕微分光装置。 - 特許庁

In this surface state measuring method for measuring the surface state of a semiconductor wafer 12 based on infrared rays emitted from the semiconductor wafer 12 after multiple reflection by the inside of the semiconductor wafer 12, a reference spectrum is measured before a prescribed manufacturing process, and a measuring spectrum is measured after a prescribed manufacturing process, and the noise caused by the interference fringe is reduced based on the reference spectrum and the measuring spectrum.例文帳に追加

半導体ウェハ１２内部を多重反射した後に半導体ウェハ１２より出射される赤外線に基づいて半導体ウェハ１２の表面状態を測定する表面状態測定方法において、所定の製造工程前に参照スペクトルを測定し、所定の製造工程後に測定スペクトルを測定し、参照スペクトル及び測定スペクトルに基づいて、干渉縞に起因するノイズを低減する。 - 特許庁

The matrix operation is performed for the RGB image signals in an IR image signal generating circuit 29 of a processor part 12 by using the estimation matrix for estimating the intensity of the reflection light of the near-infrared light and the spectrum matrix data of the near-infrared light, and IR image signals consisting of the estimated value of the intensity of the reflection light of the near-infrared light are computed.例文帳に追加

プロセッサ部12のIR画像信号生成回路29では、近赤外光の反射光強度を推定するための推定マトリクスおよび近赤外光のスペクトルマトリクスデータを用いてＲＧＢ画像信号に対してマトリクス演算を行い、近赤外光の反射光強度の推定値からなるＩＲ画像信号を算出する。 - 特許庁

The wristwatch type personal digital assistant includes: a near infrared ray irradiation part 11 for irradiation a human body with a near infrared ray; a fatigue analyzing part 12 for analyzing the degree of fatigue by analyzing an absorption spectrum with the use of reflection light after the irradiation of the near infrared ray from the near infrared ray irradiation part 11; and a control part 6 for performing control to notify the user of the analysis result of the degree of fatigue.例文帳に追加

本発明による腕時計型の携帯端末は、近赤外線を人体に照射する近赤外線照射部１１と、この近赤外線照射部１１から近赤外線を照射した後の反射光により吸収スペクトルを解析することによって、疲労度を分析する疲労分析部１２と、この疲労度の分析結果をユーザに通知制御する制御部６とを含むことを特徴としている。 - 特許庁

This ink composition contains at least one infrared-absorbing material having at least two absorption ranges (1, 2) and at least one reflection range (4) within its infrared absorption spectrum.例文帳に追加

本発明は、単一又複数の赤外光吸収材料を含有したインキ組成物であって、前記赤外光吸収材料の赤外光吸収スペクトルに、少なくとも二つの吸収帯域（１、２）と、少なくとも一つの反射帯域（４）とを有する赤外光吸収材料を含有してなるインキ組成物である。 - 特許庁

A sample 103 for inspecting the state of adsorption of the gas being provided in the treating chamber 101, infrared light from an infrared light introducing window 104 is irradiated on the sample 103 to measure a reflection-absorption spectrum, and thereby the state of an adsorbed residual gas in the treating chamber 101 is monitored.例文帳に追加

処理室１０１内にガス吸着状態を調べる試料１０３を設置し赤外光導入窓１０４からの赤外光を試料１０３に照射して反射吸収スペクトルを測定し処理室１０１内の吸着残留ガスの状態をモニタする。 - 特許庁