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metal-oxide semiconductor transistor MOSとは 意味・読み方・使い方
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「metal-oxide semiconductor transistor MOS」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
To provide a metal oxide semiconductor (MOS) transistor and a forming method thereof.例文帳に追加
金属酸化物半導体(MOS)トランジスタとその形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide the simulation circuit of an MOS (Metal Oxide Semiconductor) transistor for precisely simulating the DC characteristics of the MOS transistor.例文帳に追加
MOSトランジスタの直流特性を精度良くシミュレーションできるMOSトランジスタの模擬回路を提供すること。 - 特許庁
A P channel MOS transistor 103 and an N channel MOS transistor 104 are respectively connected between the power terminal VDD of a CMOS (complimentary metal oxide semiconductor) inverter consisting of a P channel MOS transistor 101 and an N channel MOS transistor 102 and a ground terminal.例文帳に追加
PチャネルMOSトランジスタ101とNチャネルMOSトランジスタ102とから構成されるCMOSインバータの電源端子VDDと接地端子との間に、それぞれPチャネルMOSトランジスタ103及びNチャネルMOSトランジスタ104を接続する。 - 特許庁
Each of a third metal oxide semiconductor (MOS) transistor and a forth MOS transistor is connected, in series, to each source of a first MOS transistor and a second MOS transistor which are cross-coupled for an amplification effect, and current supply capability of the third and fourth MOS transistors are controlled by a control voltage provided to a control electrode of the third and fourth MOS transistors.例文帳に追加
増幅作用をする交差結合された第1のMOSトランジスタと第2のMOSトランジスタのそれぞれのソースに直列に第3のMOSトランジスタと第4のMOSトランジスタを接続し、第3及び第4のMOSトランジスタの電流供給能力を第3及び第4のMOSトランジスタの制御電極に与える制御電圧で制御する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device along with its manufacturing method capable of obtaining a high mobility in a p-type MOS (metal oxide semiconductor) transistor while keeping the performance of an n-type MOS transistor.例文帳に追加
N型MOSトランジスタの性能を維持しながら、P型MOSトランジスタにおける高移動度を得ることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
A metal oxide semiconductor (MOS) transistor for an integrated circuit includes a gate area and a gate dielectric layer 32 positioned in the gate area.例文帳に追加
集積回路用の酸化金属半導体(MOS)トランジスタは、ゲート領域およびゲート領域に位置するゲート誘電体層32を含む。 - 特許庁
The light-receiving transistor Tr21 and the holding capacitance element C1 are each formed by a MOS (Metal Oxide Semiconductor) type structure.例文帳に追加
受光用トランジスタTr21および保持容量素子C1はそれぞれ、MOS型構造により形成されている。 - 特許庁
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「metal-oxide semiconductor transistor MOS」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
Thus, the size of a N-channel MOS (metal oxide semiconductor) transistor 8 of the memory cell MC is reduced, and the layout area is reduced.例文帳に追加
よって、メモリセルMCのNチャネルMOSトランジスタ8のサイズを小さくすることができ、レイアウト面積が小さくて済む。 - 特許庁
To provide a semiconductor device for improving the characteristics of a MOS transistor using an insulating metal oxide film for a gate insulating film, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加
絶縁性金属酸化膜をゲート絶縁膜に使用したMOSトランジスタの特性を向上させることができる半導体装置とその製造方法を提供すること。 - 特許庁
In the semiconductor device including the metal oxide semiconductor (MOS) transistor in the substrate of a semiconductor chip (1), a bump (6a) is formed on the upper part of the MOS transistor (2) whose current capability and threshold value differ from prescribed values, and the bump (6a) is formed on the substrate.例文帳に追加
半導体チップ(1)基板内に金属酸化物半導体(MOS)トランジスタ(2)を含む半導体装置であって、電流能力及びしきい値電圧が所定値と異なるMOSトランジスタ(2)の上部に、バンプ(6a)を形成し、前記バンプ(6a)を基板に固定する。 - 特許庁
On a semiconductor substrate 20 wherein an active area 22 is set, a metal oxide semiconductor (MOS) type field effect transistor is formed in a transistor forming area 24 set to the active area.例文帳に追加
アクティブ領域22が設定されている半導体基板20の、アクティブ領域に設定されたトランジスタ形成領域24にMOS型電界効果トランジスタが形成されている。 - 特許庁
To provide a semiconductor and the manufacturing method of the same capable of optimally compatible with both of the suppression of operation of a parasitic bipolar transistor, and of the reduction of on-resistance of a double diffused MOS (metal oxide semiconductor) transistor.例文帳に追加
寄生バイポーラトランジスタの動作の抑制と二重拡散型MOSトランジスタのオン抵抗の低減とを好適に両立することのできる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a structure of a MOS-PHEMT (Metal Oxide Semiconductor Pseudomorphic High Electron Mobility Transistor) suitable for use as a semiconductor device such as an SPDT switch of an MMIC (Monolithic Microwave Integrated Circuit), and to provide a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加
MMICのSPDTスイッチなど、半導体デバイスとして用いるのに適したMOS−PHEMTの構造及びその製造方法を開示する。 - 特許庁
In the charge/discharge control circuit, a constant current circuit serving as an intermediate terminal disconnection detection circuit is provided to a terminal to which secondary batteries are connected, and includes a depletion type metal oxide semiconductor (MOS) transistor and a resistor connected between a gate terminal and a source terminal of the depletion type MOS transistor.例文帳に追加
充放電制御回路の2次電池が接続される端子に設けられた中間端子はずれ検出回路の定電流回路を、デプレッション型MOSトランジスタと、デプレッション型MOSトランジスタのゲート端子とソース端子間に接続した抵抗とで構成する。 - 特許庁
In the semiconductor device having the ferroelectric capacitor 102, a tungsten layer 30 connected to an MOS (metal oxide semiconductor) transistor 20 is formed through the method of selective growth.例文帳に追加
強誘電体キャパシタ102を有する半導体装置において、MOSトランジスタ20に接続されたタングステン層30を選択的成長法により形成する。 - 特許庁
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