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principal strainとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 主ひずみ
「principal strain」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 7件
A plurality of heating lines which are respectively parallel in the principal axial direction of the inplane strain (step S13).例文帳に追加
前記面内歪みの主軸方向にそれぞれ平行な複数の加熱線を配置する(ステップS13)。 - 特許庁
To provide a GaN single crystal substrate which has a large diameter, and a small photoelasticity strain in the principal plane except plane directions of the principal plane of (0001) and (000-1).例文帳に追加
大口径で主面の面方位が(0001)および(000−1)以外で主面内における光弾性歪み値が小さいGaN単結晶基板を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate, capable of reducing the surface roughness of the principal surface of a strained Si layer provided on the principal surface of a strain-relaxing SiGe layer while suppressing differences due to positions in the rate of oxidation from surfaces of a Si-SiGe stack caused by heat treatment in an oxidation atmosphere.例文帳に追加
酸化雰囲気での熱処理によるSi−SiGe積層体の表面からの酸化速度の位置による差異を抑えつつ、歪緩和SiGe層の主表面に設けられた歪みSi層の主表面の表面粗さを小さくできる半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The gallium nitride-based semiconductor layer includes strain while the first conductivity type buffer layer 15 performs lattice relaxation on the principal plane 13a of the semiconductor region 13.例文帳に追加
第1導電型バッファ層15は半導体領域13の主面13a上において格子緩和する一方で、窒化ガリウム系半導体層は歪みを内包する。 - 特許庁
Lattice constants of the base layer 3 and second semiconductor layer 5 in the second direction in the absence of strain are larger than that of the substrate 2 in the second direction in the absence of strain, and lattice constants of the base layer 3 and second semiconductor layer 5 in the second direction while they are formed on the principal surfaces of the substrate 2 are larger than that of the substrate 2 in the second direction, respectively.例文帳に追加
そして、下地層3および第2半導体層5の無歪みの状態における第2方向の格子定数は、それぞれ、基板2の無歪みの状態における第2方向の格子定数よりも大きく、下地層3および第2半導体層5の基板2の主表面上に形成された状態における第2方向の格子定数は、それぞれ、基板2の第2方向の格子定数よりも大きい。 - 特許庁
To provide a windshield which can have a reduced thickness difference in spite of its two unparallel principal planes, has an optical strain not or hardly recognizable by the driver and to provide an interlayer suitable for manufacturing such windshield.例文帳に追加
2つの主面を非平行としながらも厚さの差を小さくでき、しかも光学的な歪が運転者に視認されない、または視認されにくいウインドシールドと、そのようなウインドシールドを製造するのに適した中間膜とを提供する。 - 特許庁
The polymer film composed of an organic polymer, is characterized in that the maximum strain of oriented principal axis of the above polymer film measured by a microwave transmission molecular orientation meter, is 7 degree or below, and a haze value is 10 to 25%.例文帳に追加
有機高分子からなる高分子フィルムであって、前記高分子フィルムのマイクロ波透過型分子配向計で測定した配向主軸の最大歪みが7度以下であり、かつヘイズ値が10〜25%であることを特徴とする高分子フィルム。 - 特許庁
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※この記事は『「多国語防災用語集」国際防災の十年(IDNDR)国民会議』の内容を転載しております。 | |
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