pulsed discharge plasmaとは 意味・読み方・使い方

A discontinuous electric discharge (typically, a pulsed plasma discharge) is applied.例文帳に追加

放電は、不連続放電（典型的にはパルスプラズマ放電）によるものである。 - 特許庁

A magnetically shielded, efficient plasma generation configuration for a pulsed discharge extreme ultraviolet (EUV) source includes two opposed convex electrodes 10 and 20 mounted on axes parallel to a static magnetic field.例文帳に追加

パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。 - 特許庁

This method comprises sintering and melting the powder material which is prepared by blending two or more oxides in a vacuum atmosphere of ≤5.0×10^-3 Pa by a discharge plasma sintering method in which a pulsed current is applied to produce the optical element material.例文帳に追加

２種類以上の酸化物を混合した粉末材料を、５．０×１０^−３Ｐａ以下の真空雰囲気で、パルス電流を印加した放電プラズマ焼結法により、焼結及び溶融することで、光学素子用材料を作製する。 - 特許庁

As a gas for plasma generation, a rare gas and a reactive gas are introduced into the reaction container 1 and at the same time a.c. or pulsed voltage is applied to electrodes 3, 4 to generate glow electric discharge in the reaction container 1 under approximately the atmospheric pressure.例文帳に追加

希ガスと反応性ガスをプラズマ生成用ガスとして反応容器１に導入すると共に電極３、４間に交流又はパルス状の電圧を印加することによって大気圧近傍の圧力下で反応容器１内にグロー放電を発生させる。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor element in forming the electrode thin film such as a transparent conductive thin film, silicide thin film, metal thin film, and the like, by plasma CVD method comprises the steps of introducing raw gas between opposed electrodes under vicinity of atmospheric pressure, and making raw gas in glow-discharge plasma state by applying pulsed electric field between the opposed electrodes.例文帳に追加

半導体素子における透明導電薄膜、シリサイド薄膜及び金属薄膜などの電極薄膜のプラズマＣＶＤ法による形成において、大気圧近傍の圧力下で対向電極間に原料ガスを導入し、該対向電極間にパルス状の電界を印加することにより原料ガスをグロー放電プラズマ化させ、薄膜の形成を行うことを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 特許庁

The protective film for polarizer is characterized by having a reflection preventing layer, which is obtained with a method for generating discharge plasma for example by applying a pulsed electric field between electrodes placed opposite to each other under a pressure close to atmospheric pressure in an gaseous atmosphere containing a metal compound, formed on a substrate film whose absolute value of photoelastic constant is not more than 20×10-7 cm2/kgf.例文帳に追加

光弾性係数の絶対値が２０×１０^-7ｃｍ^2 ／ｋｇｆ以下である基材フィルム上に、例えば、大気圧近傍の圧力下、金属化合物を含むガス雰囲気中で、対向電極間にパルス化された電界を印可することにより、放電プラズマを発生させる方法で得られた反射防止層が形成されていることを特徴とする偏光子保護フィルム。 - 特許庁