review SEMとは 意味・読み方・使い方

In the review SEM (defect observation apparatus), the importance degree of images or the like is judged from information such as the classified result of a picked-up defect image, a defect feature amount calculated from the image and the imaging state of the image, and is added to each image as incidental information.例文帳に追加

レビューＳＥＭにおいて、撮像した欠陥画像の分類結果、画像から算出された欠陥特徴量、画像の撮像状態などの情報から画像の重要度等を判定し、各画像に付帯情報として付加する。 - 特許庁

To keep high throughput in an SEM-type defect review apparatus for automatically collecting a defective image existent on a sample such as a semiconductor wafer or the like.例文帳に追加

半導体ウェーハ等の試料上に存在する欠陥の画像を自動収集するＳＥＭ式欠陥レビュー装置において、高いスループットを提供する。 - 特許庁

At defect detection through the use of a defect review SEM, an XY coordinate system is set in the overall surface (except curved faces) of a product wafer 20 to generally inspect the surface of the product wafer 20.例文帳に追加

欠陥レビューＳＥＭを用いた欠陥検出に際し、製品ウェーハ２０の全面（Ｒ端面を除く。）にＸＹ座標系を設定し、製品ウェーハ２０表面を全体的に検査できるようにする。 - 特許庁

Part of the flaw, which shows the intensity of the scattered light of the region held between the reference discrimination curve and the approximate curve, of the flaw is selected and a review SEM is used to decide whether part of the flaw is the contaminations or COP.例文帳に追加

その欠陥のうち、参照弁別線と近似線とに挟まれた領域の散乱光強度を示す一部の欠陥を選択し、レビューＳＥＭを用いて、その一部の欠陥が異物であるかＣＯＰであるかを判定する。 - 特許庁

The positions of the appearance inferiority places output from the visual inspection devices are stored as the absolute coordinates in an SEM type review device and, even if a process is different, the automatic imaging of the absolute coordinates indicated by a user is executed to facilitate execution of the process trace.例文帳に追加

外観検査装置から出力される外観不良箇所の位置を、ＳＥＭ式レビュー装置内の絶対座標として記憶し、工程が異なっても、ユーザーが指示した絶対座標の自動撮像を実施することによって工程トレースが容易に実施可能となる。 - 特許庁

To provide an inspection system by which investigation or the like of the causes of defects of a semiconductor sample can be easily performed by making the work for observing defects detected by a SEM (scanning electron microscope)-aided appearance inspection apparatus is surely performable with the use of a review apparatus with high definition.例文帳に追加

ＳＥＭ式外観検査装置で検出した欠陥をレビュー装置で高分解能観察する作業を容易、且つ確実に行えるようにし、半導体試料の欠陥に対する原因究明等が容易に行える検査システムを提供する。 - 特許庁