secondary electron imageとは 意味・読み方・使い方

The image of the sample face is formed by the detected secondary electron signal.例文帳に追加

検出した二次電子信号から試料面の画像が形成される。 - 特許庁

To efficiently analyze the trouble of a semiconductor device by a secondary electron image.例文帳に追加

２次電子像による半導体装置の不具合解析の効率化。 - 特許庁

To raise contrast level of the FIB image by increasing the secondary electron collection efficiency of the secondary electron detection system in the focusing ion beam device(FIB).例文帳に追加

集束イオンビーム装置（ＦＩＢ）における二次電子検出系の二次電子収集効率を高めてＦＩＢ画像のコントラストレベルを上げる。 - 特許庁

To realize a scanning electron microscope, in which secondary electrons can be detected even under a low vacuum, and an observation of a secondary electron image can be performed.例文帳に追加

低真空下でも２次電子を検出でき、２次電子像の観察を行うことができる走査電子顕微鏡を実現する。 - 特許庁

A secondary electron profile 29 only for the foreign matters is obtained from a secondary electron profile 28 of the foreign matters portion in a sample image 26 and a secondary electron profile 27 of the same portion in a reference image 21.例文帳に追加

試料画像２６における異物部分の二次電子プロファイル２８と参照画像２１の同じ部分の二次電子プロファイル２７から異物のみの二次電子プロファイル２９を得る。 - 特許庁

Secondary electrons are more generated at the edge 15 than at the other region, so that the secondary electron image of the edge 15 becomes brighter on a CRT, and the electron-beam exposure system is focused on the pattern of the reticle 10 at a position where the secondary electron image of the edge 15 becomes brightest.例文帳に追加

エッジ１５での二次電子の発生効率が高いため、エッジの部分の二次電子像がＣＲＴ上で明るく見え、エッジ１５の二次電子像が最も鮮明に見える位置でパターンのフォーカスも合うことになる。 - 特許庁

An electron-beam exposure system is focused while the stepped pattern 11 is irradiated with a drawing electron beam and the secondary-electron image of the edge 15 is observed.例文帳に追加

電子線描画のフォーカス合わせを、段差状パターン１１に描画電子ビームを当ててエッジ１５の二次電子像を観察しながら行う。 - 特許庁

The region on the sample 4 that should be observed is scanned two-dimensionally with an electron beam from an electron gun 1, and a secondary electron image in the observation is displayed in a display device 34 by a signal based on a secondary electron from the observation region inspected at a secondary electron inspection device 31 by this scanning.例文帳に追加

電子銃１からの電子ビームで試料４上の観察すべき領域を二次元的に走査し、この走査により二次電子検出器３１で検出された観察領域からの二次電子に基づく信号により表示装置３４に観察領域の二次電子像を表示させる。 - 特許庁