shifting beamとは 意味・読み方・使い方

This electron gun 23 is provided with a function for shifting a side beam outward in an electron gun electrode as an electron beam is deflected to the screen periphery.例文帳に追加

電子銃２３に、電子ビームが画面周辺へ偏向されるに従い、電子銃電極内でサイドビームを外側にずらす機能を持たせる。 - 特許庁

The change of the output of a laser beam oscillator 4 corresponding to the change of shifting speed of the laser beam machining head 2 accompanied with the above control is simultaneously performed.例文帳に追加

それに伴うレーザ加工ヘッド２の移動速度変更に見合ったレーザ発振器４の出力変更を併せて実行する。 - 特許庁

The beam shifting element (9), and an apparatus for reading from and/or writing to an optical storage medium (11) in such a beam shifting element are disclosed.例文帳に追加

本発明は、ビームシフト素子（９）、およびそのようなビームシフト素子（９）を使用して光記憶媒体（１１）から読み出しおよび／または同媒体へ書き込むための装置に関する。 - 特許庁

To highly accurately correct positional shifting of each beam during writing in a main scanning direction by accurately and highly precisely grasping shifting of a beam irradiation position in the main scanning direction inexpensively.例文帳に追加

安価に、主走査方向でのビーム照射位置のずれを、正確、高精度に把握し、主走査方向における書込での各ビームの位置ずれを高精度に補正する。 - 特許庁

In the electron beam inspection device, a stage shifting speed can be adjusted irrespective of a limit of electron beam deflection frequency by scanning electron beam in the same direction (a horizontal direction) with a direction of scan-shifting of the stage.例文帳に追加

本発明による電子線検査装置では、ステージをスキャン移動させる方向と同一の方向（水平方向）にて電子線を走査させることで、電子線の偏向周波数の限界に関係なく走査数によりステージ移動速度が調整可能となる。 - 特許庁

The phase shifting mask has a mask substrate substantially transparent to the energy beam used and a patterned phase shifting layer disposed on the mask substrate and having openings therein exposing the mask substrate.例文帳に追加

この位相シフト・マスクは、使用されるエネルギー・ビームに対しほぼ透明なマスク基板と、マスク上に付着されマスク基板を露出させる開口をその中に有するパターン化された位相シフト層とを備える。 - 特許庁

In the laser beam machining apparatus 1, firstly, the laser beam (short pulse beam) 7 from a high intense laser beam 2 is set so as to condense under a material S to be machined, fixed to a stage 5 for precisely shifting through a beam positional adjusting part 3 and an objective lens 4.例文帳に追加

レーザ加工装置１では、先ず、高強度レーザ２からのレーザ光（短パルス光）７を、ビーム位置調整部３及び対物レンズ４を介して、精密移動用ステージ５に固定された被加工材料Ｓの下で集光するようにセットする。 - 特許庁

The electron beam irradiation device processing the material 5 to be processed by irradiating the electron beam thereto is characterized by a means shifting an electron beam irradiation device body 1 having the electron beam tube 2, relative to the material 5 to be processed in processing the material 5 to be processed by irradiating the electron beam thereto.例文帳に追加

被処理物５に電子ビームを照射して処理する電子ビーム照射装置において、被処理物５の電子ビーム照射処理時、被処理物５に対して電子ビーム管２を備える電子ビーム照射装置本体１を移動させる手段を有していることを特徴とする。 - 特許庁