step in between the twoとは 意味・読み方・使い方

Calibration for calculating a distance per one picture element is carried out based on the distance between two points of a picture element unit in the image and the distance between two points measured actually, in step A3.例文帳に追加

また、ステップＡ３では、画像における画素単位の２点間距離と、実測の２点間距離とから、１画素当たりの距離を算出するキャリブレーションを行う。 - 特許庁

To obtain a resist pattern which has a desired resist step, even when the difference in transmission properties between two or more translucent portions is small.例文帳に追加

２種類以上の半透光部の透過率差が小さい場合においても、所望のレジスト段差をもつレジストパターンを得ること。 - 特許庁

When the local energy is greater than a threshold, a direction where the difference between the pixels tied by each diagonal line is least is detected as an edge direction (step S45), and an image between the two pixels is interpolated to have the average value of the two pixels in the direction (step S46).例文帳に追加

局所エネルギーが閾値より大きい場合、対角線上に位置する画素の差が最も小さい方向が、エッジの方向として検出され（ステップＳ４５）、その方向の２つの画素の平均値として、その間の画像が補間される（ステップＳ４６）。 - 特許庁

In the machining propriety determination step, when there is at least one coordinate point Qn between the two external contact points P1 and P2 specified by the external contact point specifying step, the determination is made on whether the lens shape machining between the two external contact points P1 and P2 can be performed by using a machining tool having a predetermined tool radius R.例文帳に追加

加工可否判定工程では、外接点特定工程によって特定された２つの外接点Ｐ１，Ｐ２の間に少なくとも一つの座標点Ｑｎがある場合に、２つの外接点Ｐ１，Ｐ２の間を所定の工具半径Ｒを有する加工具で玉型加工が可能か否かを判定する。 - 特許庁

A part 7a between the two cut lines 6 is made a step-difference in a laminating direction to both sides which intersect the cut lines 6, in such a manner that the connection metal plate 4 in the part exists inside the step-difference direction.例文帳に追加

２本の切れ目６の間の部分７ａを、その部分の接続金属板４が段違い方向の内側に存在するようにして、切れ目６に交差する両側の部分に対して積層方向に段違いにする。 - 特許庁

Moreover, the temporary read step and the main read step are performed by the same sensor part in this sensor, so that an image read status is not deviated between both the steps in comparison with configuration wherein both the steps are performed by two sensor parts.例文帳に追加

さらに、本センサでは、仮読取工程と本読取工程とを同一のセンサ部によって行うため、両工程を２つのセンサ部によって行う構成に比して、両工程間で画像の読取状態にずれがない。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device, having a multilayer surface including two or more semiconductor layers different in crystal growing conditions, comprises a temperature-lowering step 20a and a temperature-rising step 20c, after the temperature-lowering step in a crystal growth interrupted step 20 between a crystal growing step 10 of one semiconductor layer and a crystal growing step 12 of another semiconductor layer.例文帳に追加

結晶成長条件の異なる２以上の半導体層を含む多層構造からなる半導体デバイスの製造方法であって、一の半導体層の結晶成長工程１０と他の半導体層の結晶成長工程１２との間における結晶成長中断工程２０において、降温工程２０ａおよび前記降温工程後の昇温工程２０ｃを含む半導体デバイスの製造方法。 - 特許庁

When correlation calculation is conducted by shifting two image signals at specified steps, the step number is set at different values in the correlation calculation processing between a distance range where a precision of the step number is required and the other distance range.例文帳に追加

２像の信号を所定ステップづつシフトしながら相関演算を行なうに際して、前記ステップ数を精度が要求される距離範囲とそれ以外の距離範囲における相関演算処理では異なる値にセットする。 - 特許庁