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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JST科学技術用語日英対訳辞書 > strained-layer quantum wellの意味・解説 

strained-layer quantum wellとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 歪層量子井戸


JST科学技術用語日英対訳辞書での「strained-layer quantum well」の意味

strained layer quantum well


「strained-layer quantum well」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

An asymmetric strain is produced in the surface of the strained quantum well of the semiconductor quantum well layer 13.例文帳に追加

半導体量子井戸層13の歪量子井戸の面内には非対称な歪が発生する。 - 特許庁

The InGaAsP strained quantum well active layer has: a multiple quantum well structure having an InGaAsP barrier layer 40 and an InGaAsP well layer 42 alternately laminated; and InGaAsP guide layers 44 and 46 between which the multiple quantum well structure is sandwiched.例文帳に追加

InGaAsP歪量子井戸活性層は、InGaAsPバリア層40及びInGaAsPウェル層42が交互に積層された多重量子井戸構造と、多重量子井戸構造を挟むInGaAsPガイド層44,46とを有する。 - 特許庁

The semiconductor saturable absorber mirror is produced by allowing a reflection mirror layer 12 made of DBR to grow on an inclined substrate 11 and also by allowing a semiconductor quantum well layer 13 on the mirror layer to grow as a saturable absorbing layer including a strained quantum well.例文帳に追加

傾斜基板11上にDBRからなる反射ミラー層12を成長させ、その上に、歪量子井戸を含む可飽和吸収層として半導体量子井戸層13を成長させることにより半導体可飽和吸収体ミラーを作製する。 - 特許庁

The semiconductor modulator has such a configuration that an InGaAs/InAlAs quantum well layer 3 is formed by arranging an InAlAs barrier layer which is lattice-matched with a substrate on both sides of an InGaAs compressively-strained quantum well layer which is formed as light absorption layer, on a semiconductor crystal InGaAs substrate 1 of ternary mixed crystal.例文帳に追加

半導体変調器を、3元混晶の半導体結晶InGaAs基板1上に、光吸収層として、InGaAs圧縮歪量子井戸層の両側に、基板に格子整合するInAlAs障壁層を配したInGaAs/InAlAs量子井戸層3を形成する構成とした。 - 特許庁

In a semiconductor light emitting element having an active layer 3 including a strained quantum well layer 2, and a clad layer 4 for confining light and a carrier formed on a semiconductor substrate 1, the thickness of the strained quantum well layer 2 is larger than a critical film thickness h_c when a single layer film is grown on a substrate of an infinite thickness.例文帳に追加

半導体基板1上に、歪み量子井戸層2を含む活性層3と、光とキャリアを閉じ込めるクラッド層4とが形成されている半導体発光素子において、前記歪み量子井戸層2の厚さは、無限大の厚さの基板上に単層膜を成長するとした場合の臨界膜厚h_cよりも厚いことを特徴とする。 - 特許庁

A p-AlGaAs first upper cladding layer 108 having a doping concentration of10^18 cm^-3 is formed between the p-AlGaAs second upper cladding layer 109 and a multiple strained quantum well active layer 106.例文帳に追加

p-AlGaAs第2上クラッド層109と多重歪量子井戸活性層106との間に、ドーピング濃度が1×10^18cm^-3のp-AlGaAs第1上クラッド層108を形成する。 - 特許庁

例文

On a p-type InP substrate, a p-type InP clad layer, an InGaAsP strained quantum well active layer, and an n-type InP clad layer are laminated in order.例文帳に追加

p型InP基板上に、p型InPクラッド層、InGaAsP歪量子井戸活性層、n型InPクラッド層が順次積層されている。 - 特許庁

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Weblio専門用語対訳辞書での「strained-layer quantum well」の意味

strained-layer quantum well

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「strained-layer quantum well」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11



例文

Near the light output end faces, impurities are introduced into the strained quantum well active layer 12 and a window region 4a is provided whose composition is disordered.例文帳に追加

光出力端面の近傍では、歪量子井戸活性層12に不純物が導入され、組成が無秩序化された窓領域4aが設けられている。 - 特許庁

An InGaAs strained quantum-well active layer 16 of a semiconductor optical amplifier 30 includes: two optical waveguides 16A and 16B; a demultiplexing part 16C for demultiplexing incident light into the optical waveguides 16A and 16B; and a multiplexing part 16D for multiplexing light from the optical waveguides 16A and 16B.例文帳に追加

半導体光増幅器30のInGaAs歪量子井戸活性層16は、2つの光導波路16A、16B、入力された光を光導波路16A、16Bに分波する分波部16C、光導波路16A、16Bからの光を合波する合波部16Dを含む。 - 特許庁

In the semiconductor laser having an oscillation wavelength of 760-800 mm, n-type first and second lower clad layers 103 and 104, a lower guide layer 105, an InGaAsP strained multiple quantum well active layer 107, an upper guide layer 109, and a p-type upper clad layer 110 are formed sequentially on an n-type GaAs substrate 101.例文帳に追加

発振波長が760nmより大きく800nmより小さい半導体レーザ装置であって、n型のGaAs基板101上に、n型の第1,第2下クラッド層103,104、下ガイド層105、InGaAsP多重歪量子井戸活性層107、上ガイド層109、p型の上クラッド層110を順次積層する。 - 特許庁

例文

A high-mobility Ge channel field effect transistor with a layered heterostructure incorporates multiple semiconductor layers on a semiconductor substrate, and a channel structure of a compressively strained epitaxial Ge layer having a higher barrier or a deeper confining quantum well and having an extremely high hole mobility for complementary MODFETs and MOSFETs.例文帳に追加

半導体基板上に複数の半導体層と、より高いバリアまたはより深い閉じ込め量子井戸を有し、相補型MODFETおよびMOSFETのための非常に高い正孔移動度を有する圧縮ひずみエピタキシャルGe層のチャネル構造を取り込み、層状ヘテロ構造をもつ高移動度Geチャネル電界効果トランジスタを形成する。 - 特許庁

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