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sub-quarter-micronとは 意味・読み方・使い方
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「sub-quarter-micron」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
To provide a photoresist composition suitable for high performance applications such as high resolution sub-half micron and sub-quarter micron features.例文帳に追加
高解像サブハーフミクロンおよびサブクオーターミクロンフィーチャーなどの高性能用途に適したフォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁
PRECLEANING METHOD PRIOR TO METALLIZATION FOR SUB-QUARTER MICRON APPLICATION例文帳に追加
サブクオーターミクロン適用のための、メタライゼーションに先立つ予備洗浄方法 - 特許庁
To obtain a high sensitivity positive type radiation sensitive composition having such resolution as to attain sub-quarter-micron patterning.例文帳に追加
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁
To obtain a positive type radiation sensitive composition having high sensitivity and such resolution as to attain sub-quarter-micron patterning.例文帳に追加
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁
To enable reliable formation of a T-shaped gate electrode of sub- quarter micron with use of polymethyl metaacrylate(PMMA)-based resist.例文帳に追加
ＰＭＭＡ系レジストを用いてサブクォーターミクロンのＴ型ゲート電極を確実に形成できるようにする。 - 特許庁
To obtain a positive radiation sensitive composition having such resolution as to enable sub-quarter micron patterning and also having high sensitivity and to provide a method for producing a resist pattern using the composition.例文帳に追加
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁
To solve the problem that available photoresists are suitable for many applications but existing resists may show notable defects particularly in high-performance application, e.g., in the formation of highly resolved sub-half micron and sub-quarter micron features.例文帳に追加
現在利用可能なフォトレジストは、多数の用途に対し好適であるが、現在のレジストは、また、特に高性能の用途、例えば、高度に解像されたサブ−ハーフミクロンおよびサブ−クォーターミクロン（ｓｕｂ−ｑｕａｒｔｅｒ ｍｉｃｒｏｎ）フィーチャーの形成において、顕著な欠点を示し得る。 - 特許庁
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「sub-quarter-micron」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
To provide new photoresist compositions which are useful in immersion lithography and exhibit no significant shortcomings in high performance applications such as formation of highly resolved sub-quarter micron and even sub-tenth micron features, and also to provide methods of processing the photoresist compositions.例文帳に追加
高解像１／４ミクロン以下さらには１／１０ミクロン以下のフィーチャの形成などの高性能用途において有意な欠点を示さない、液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物及びその処理する方法を提供する。 - 特許庁
To realize a dynamic logic circuit which operates at a high speed and is lessened in power consumption even under a design rule applied to a region of sub-quarter micron or below.例文帳に追加
サブクォータミクロン以下の領域のデザインルールにおいても、ダイナミック型論理回路の動作の高速化及び低消費電力化を実現できるようにする。 - 特許庁
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