tantalum atomとは 意味・読み方・使い方

The semiconductor capacitor includes an upper electrode 130, a lower electrode 110, a tantalum oxide film 120 formed on the lower electrode by chemical vapor deposition by using a source gas comprising ozone and a tantalum precursor containing atom or atomic group combined with tantalum by coordination bonding.例文帳に追加

下部電極１１０、タンタル原子と配位結合する原子又は原子団を含むタンタル前駆体及びオゾンガスをソースガスとして前記下部電極上に化学気相蒸着したタンタル酸化膜１２０及び上部電極１３０を含んで構成される。 - 特許庁

In performing the trimerization reaction of ethylene with the use of a catalyst system comprising a tantalum compound and an alkylating agent containing a metal, the method for preparing 1-hexene is performed under the conditions that the water content in the reaction system is not more than 4 molar times the tantalum atom and/or the amount of a molecular oxygen is not more than 2 molar times the tantalum atom.例文帳に追加

タンタル化合物と金属を含有するアルキル化剤とを含む触媒系を用いてエチレンの三量化反応を実施するに際し、反応系内の水分量がタンタル原子の４モル倍以下および／または分子状酸素量がタンタル原子の２モル倍以下である条件下で実施することを特徴とする１−ヘキセンの製造方法。 - 特許庁

A seed layer of a magnetic recording medium is formed with a sputtering target comprising an alloying element having solubility to tantalum (Ta) and a tantalum (Ta) phase of a body-centered cubicle ≤10 atom% at room temperature and mass susceptibility ≤1.5×10^-7m^3/kg on a substrate.例文帳に追加

磁気記録媒体のシード層を、タンタル(Ｔａ)と、体心立方のタンタル(Ｔａ)相に対する溶解度が室温で１０原子パーセント以下であり且つ１．５×１０^-7ｍ^3/ｋｇ以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるスパッタターゲットで基板上に形成する。 - 特許庁

The oxidation resistant coating is formed of an alloy containing, by atom%, about 30 to about 55 aluminum and about 0.5 to about 3 tantalum, and the balance nickel, cobalt, iron or their mixture.例文帳に追加

約３０〜５５原子％のアルミニウム及び約０．５〜３原子％のタンタルを含有し、残部のニッケル、コバルト、鉄又はこれらの混合物である合金から形成された耐酸化性皮膜が提供される。 - 特許庁

To increase the sharpness of voltage-current characteristics by setting the atom ratio of oxygen and tantalum which are contained in the insulating film of an MIM-type nonlinear element to O/Ta<2.5.例文帳に追加

ＭＩＭ型非線形素子の絶縁膜中に含まれる酸素とタンタルの原子比をＯ／Ｔａ＜２．５とすることで電圧−電流特性の急峻性を大きくすることを目的とする。 - 特許庁

The element having the value of the iron atom diffusion coefficient at 1,100°C contained in the cobalt alloy particles which is smaller than that of the cobalt element is preferably any one of vanadium, chromium, niobium, molybdenum, tantalum and tungsten, in particular, any one of niobium, molybdenum, tantalum and tungsten is preferable.例文帳に追加

コバルト合金粒子中に含まれる１１００℃における鉄原子拡散係数の値がコバルト元素に比べて小さい元素は、バナジウム元素、クロム元素、ニオブ元素、モリブデン元素、タンタル元素及びタングステン元素のいずれかであることが好ましく、特に好ましくはニオブ元素、モリブデン元素、タンタル元素及びタングステン元素のいずれかである。 - 特許庁

The coating film (24) has an average aluminum content of 14 to 30 atom% and an average platinum-group metal content of at least 1 to less than 10 atom%, the balance of the coating (24) being nickel, one or more of chromium, silicon, tantalum, and cobalt, optionally one or more of hafnium, yttrium, zirconium, lanthanum, and cerium, and incidental impurities.例文帳に追加

本皮膜（２４）は、１４〜３０原子％の平均アルミニウム含有量と、少なくとも１〜１０未満の原子％の平均白金族金属含有量とを有し、本皮膜（２４）の残部は、ニッケルと、クロム、シリコン、タンタル及びコバルトの１つ又はそれ以上と、随意的にハフニウム、イットリウム、ジルコニウム、ランタン及びセリウムの１つ又はそれ以上と、随伴不純物とである。 - 特許庁