time exposuresとは 意味・読み方・使い方

Two projection lenses are provided on the same surface plate to independently perform two exposures, that is, a cyclic pattern exposure referring to dual-beam flux interference exposure and an ordinary pattern exposure, excluding the cyclic pattern exposure, a mask for each of exposures is provided respectively, and then the respective exposures are performed by a unit of wafer and the wafer is exchanged within a short time.例文帳に追加

同一定盤上に、二光束干渉露光に代表される周期パターン露光と周期パターン露光を含まない通常パターン露光の２つの露光を独立可能とする投影レンズを２本設け、さらに、各露光用のマスクを各々設けて、各露光をウエハ単位で露光処理し、短時間にウエハ交換する。 - 特許庁

The requested dose pattern is built up over time from an array of localized exposures in which at least neighboring localized exposures are imaged at substantially different times, and in which each localized exposure is produced by one of the sub-beams of radiation.例文帳に追加

要求ドーズ・パターンは、少なくとも隣接する局所露光部が実質的に異なる時間で結像され、また各局所露光部が放射線のサブビームの１つによって生成される一連の局所露光部から時間の経過につれて構築される。 - 特許庁

When an exposure time for one exposure does not reach an exposure time to obtain optimum exposure, a plurality of exposures are performed until a total exposure time reaches the exposure time to obtain the optimum exposure.例文帳に追加

１回の露光時間が適正露出を得るための露光時間に達していなければ、露光時間の総和が適正露出を得るための露光時間に達するまで、複数回露光を行う。 - 特許庁

The device 1 comprises an exposure time setting part 12b for setting the exposure time when imaging each element group, and the exposure time required for a plurality of exposures to one shooting is set to at least one element group.例文帳に追加

装置１は、素子群ごとに撮像の際の露光時間を設定する露光時間設定部１２ｂを具備し、少なくとも１つの素子群には、１回の撮像に対して複数回の露光が行われる露光時間を設定する。 - 特許庁

Since the first and second exposures can be performed by changing the exposing condition, such as the lighting condition etc., one time only when the change of the exposing condition is required between the first and second exposures (step 200), the speed regulation of the changing time of the exposing condition is not required as compared with the case where the exposing condition is changed whenever the exposure of one wafer ends.例文帳に追加

このため、例えば第１，第２露光間で照明条件その他の露光条件の変更が必要な場合などに、１回のみ露光条件の変更を行えば良いので（ステップ２００）、１枚のウエハの露光が終了する毎に露光条件を変更する場合のように、その露光条件の切り替え時間の律速を受けることがない。 - 特許庁

Therefore, the illumination of the substrate surface, that is, the first to third exposures are appropriately set by the main control unit 50 so that the exposure time for each process or the entire exposure time is appropriately set.例文帳に追加

従って、主制御装置５０により基板面の照度、すなわち第１〜第３の露光量が適宜設定され、個々の工程の露光時間、又は全体の露光時間が適宜設定される。 - 特許庁

This polymer type humidity sensor has a rapid response time, durability, excellent adherence to terminals, low hysteresis, and exhibit stability to exposures of high temperature and high relative humidity.例文帳に追加

本発明に係るポリマータイプ湿度センサは早い応答速度と耐久性、優れた粘着性、低いヒステリシス、高温と高い相対湿度に露出された場合の高い安定性を有する。 - 特許庁

To provide a cathode structure of an electron beam irradiation device capable of conveying and treating treated objects with different required exposures at the same time, and effectively utilizing an output of a direct-current high-voltage power source for accelerating electron.例文帳に追加

必要な照射線量の異なる被処理物を同時に搬送して処理を行うことが出来、また電子を加速する直流高圧電源の出力を有効に活用出来る電子線照射装置のカソード構造を提供する。 - 特許庁