total removalとは 意味・読み方・使い方

To plan total cost reduction by contriving simplification of constitutional system and removal of water treatment equipment in reduction and removal of dioxins, dust, hydrogen chloride(HCl), nitrogen oxides(NOx) and sulfur oxides(SOx) in an exhaust gas.例文帳に追加

排ガス中に含まれるダイオキシン類、ダスト、塩化水素（ＨＣｌ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）及び硫黄酸化物（ＳＯｘ）の低減除去に関し、構成機構の簡素化及び水処理設備の削除を計ることにより全体的コストダウンを計る。 - 特許庁

In the method, a linear thin coating film is formed on the surface of the substrate at the end part by the first removal stage, but, the linear coating film is removed by the second removal stage, so that the total treatment time is reduced, and the coating film in the end part can efficiently be removed.例文帳に追加

この手法では、第１の除去工程にて縁部の基板表面に線状の薄い塗布膜が発生するが、この線状の塗布膜が第２の除去工程にて除去されるので、トータルの処理時間が短縮され、効率良く前記縁部の塗布膜を除去することができる。 - 特許庁

Removal liquid for removing unwanted photoresist adhered to a substrate edge part has a composition is composed of 1-methoxy-2-propanol and 3-methoxy-1-propanol, while the blending quantity of 3-methoxy-1-propanol is 0.03 to 0.15 percent by weight with respect to the total quantity of the removal liquid.例文帳に追加

基板端縁部に付着した不要なホトレジストを除去するための除去液であって、１−メトキシ−２−プロパノールと３−メトキシ−１−プロパノールとからなり、かつ、３−メトキシ−１−プロパノールの配合量が除去液全量に対し０．０３〜０．１５重量％である除去液。 - 特許庁

To provide an apparatus for removing an acidic gas contained in an exhaust gas which can neutralize the acidic gas contained in an exhaust gas, remarkably decreases the amounts of acidic gas removal residues generated by the separation removal and an un-reacted calcium type neutralization agent, saves the cost of the neutralization agent and accordingly saves the total cost and provides an acidic gas removal efficiency sufficient to satisfy the emission control.例文帳に追加

排ガス中の酸性ガスの中和、分離除去によって発生する脱酸性ガス残渣及び未反応カルシウム系中和剤の発生量を大幅に低減でき、中和剤の費用も低減でき、以ってトータルコストも低減でき、それでいて排ガス規制を満たす充分な酸性ガス除去率を実現可能な排ガス中の酸性ガス除去装置を提供すること。 - 特許庁

When removal and setting of the ink cartridge is detected (steps 22 and 23), if the total printing number P at the time point is different from the total printing number Pn at the last time of ink suppliance (step 24), ink feeding is carried out (step 25), and a value of P is stored in Pn (step 26).例文帳に追加

インクカートリッジの取り外し、装着を検出した場合（ステップ２２，２３）、その時点のトータル印刷枚数Ｐと前回インク補充した時のトータル印刷枚数Ｐｎが異なるならば（ステップ２４）、インク供給を実行し（ステップ２５）、ＰｎにＰの値を保存する（ステップ２６）。 - 特許庁

To develop a novel chemical mechanical polishing (CMP) composition capable of removing a phase change material selectively at high removal rate, while reducing total defects and Te residuum defects.例文帳に追加

高い除去速度で選択的に相変化物質の除去ができ、その一方でまた、総欠陥及びＴｅ残査欠陥の減少をもたらす、新規なケミカルメカニカルポリッシング（ＣＭＰ）組成物を開発する。 - 特許庁

To increase total operating time of a plasma CVD system by properly capturing/transporting particulates that exist in the system to reduce the number of particulates deposited on a wafer or to shorten the stop time of the system for particulate removal or the like.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置内に存在する微粒子を適切に捕集・搬送し、ウエハに堆積する微粒子数を削減もしくは微粒子除去等による装置の停止時間を短くし、連続運転時間を増大させる。 - 特許庁

In this invention, a low dielectric constant insulating film is formed by reducing a total heating time, while performing solvent removal and dehydrate condensation reaction in a short time by hot-plate heating, and performing furnace annealing at a temperature higher than heat decomposition of the organic polymer.例文帳に追加

本発明では、熱板加熱で短時間に溶剤除去と脱水縮合反応を行わせ、有機高分子の熱分解以上の温度で炉アニールすることで加熱総時間を短縮させて低誘電率絶縁膜を形成できる。 - 特許庁