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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > マイクロエレクトロニクスの意味・解説 > マイクロエレクトロニクスに関連した英語例文

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マイクロエレクトロニクスを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 74



例文

マイクロエレクトロニクス素子構造例文帳に追加

MICRO-ELECTRONICS ELEMENT STRUCTURE - 特許庁

マイクロエレクトロニクス構成部材の製造方法及びマイクロエレクトロニクス構成部材例文帳に追加

MICROELECTRONIC COMPONENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

マイクロエレクトロニクスばね接触部品例文帳に追加

MICROELECTRONICS SPRING CONTACT - 特許庁

集積型マイクロエレクトロニクスモジュール例文帳に追加

INTEGRATION-TYPE MICROELECTRONIC MODULE - 特許庁

例文

マイクロエレクトロニクス装置およびその製造方法例文帳に追加

MICROELECTRONIC APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁


例文

サンプル検査方法、その装置、マイクロエレクトロニクス装置製造用クラスタツール、マイクロエレクトロニクス装置製造用装置例文帳に追加

SAMPLE INSPECTION METHOD, ITS DEVICE, CLUSTER TOOL FOR MANUFACTURING MICROELECTRONICS DEVICE, AND DEVICE FOR MANUFACTURING MICROELECTRONICS DEVICE - 特許庁

マイクロエレクトロニクス製造システムのクリーニング方法およびこれを用いたマイクロエレクトロニクス製造システム例文帳に追加

CLEANING METHOD OF MICROELECTRONIC MANUFACTURING SYSTEM AND MICROELECTRONIC MANUFACTURING SYSTEM CLEANED USING THE SAME - 特許庁

マイクロエレクトロニクスは産業界に革命をもたらそうとしている.例文帳に追加

Microelectronics is on the point of revolutionizing the industrial world.  - 研究社 新和英中辞典

単結晶、マイクロエレクトロニクス・デバイス構造、ウエハおよび製品例文帳に追加

SINGLE CRYSTAL, MICROELECTRONICS DEVICE STRUCTURE, WAFER, AND PRODUCT - 特許庁

例文

そのような膜はマイクロエレクトロニクス産業で有用である。例文帳に追加

Such films are useful in the microelectronics industry. - 特許庁

例文

マイクロエレクトロニクスにおけるダイヤモンドイド含有材料例文帳に追加

DIAMOND-CONTAINING MATERIAL IN MICROELECTRONICS - 特許庁

マイクロエレクトロニクス用のストリッピングおよび洗浄組成物例文帳に追加

STRIPPING FOR MICROELECTRONICS AND CLEANING COMPOSITION - 特許庁

方法は、マイクロエレクトロニクス装置を提供し、内蔵TEC120とマイクロエレクトロニクス装置との間に搭載材料がないように、内蔵TECをマイクロエレクトロニクス装置上に直接形成することを含む。例文帳に追加

The method includes providing a microelectronic device, and fabricating the built-in TEC directly onto the microelectronic device such that there is no mounting material between the built-in TEC 120 and the microelectronic device. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス装置を冷却する内蔵熱冷却機(TEC)を含むマイクロエレクトロニクス・アセンブリ、および、マイクロエレクトロニクス・アセンブリを含むシステムを製作する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for fabricating a microelectronic assembly including a built-in thermoelectric cooler (TEC) for cooling a microelectronic device, and a system including the microelectronic assembly. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス回路装置の電気的特性の調整方法、マイクロエレクトロニクス回路装置と調整装置とを有するシステム、およびマイクロエレクトロニクス回路素子の使用法例文帳に追加

METHOD FOR ADJUSTING ELECTRIC CHARACTERISTIC OF MICROELECTRONIC CIRCUIT DEVICE, SYSTEM WITH BOTH MICROELECTRONIC CIRCUIT DEVICE AND ITS ADJUSTING DEVICE, AND USE OF MICROELECTRONIC CIRCUIT DEVICE - 特許庁

二 真空マイクロエレクトロニクス装置の設計又は製造に係る技術(プログラムを除く。)例文帳に追加

(ii) The technology (excluding programs) pertaining to the design or manufacture of vacuum microelectronics devices  - 日本法令外国語訳データベースシステム

ハロゲン酸素酸、その塩及び誘導体含有、マイクロエレクトロニクス洗浄組成物例文帳に追加

MICROELECTRONICS CLEANING COMPOSITION CONTAINING HALOGEN OXYACID, ITS SALT, AND DERIVATIVE - 特許庁

ハロゲン酸素酸、それらの塩および誘導体を含むマイクロエレクトロニクス洗浄組成物を使用する。例文帳に追加

The microelectronics cleaning composition contains halogen oxyacids, their salts, and derivatives. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス・デバイス構造の組み立てのために用い得るブールの提供。例文帳に追加

To provide a boule that can be used for assembling microelectronics device structure. - 特許庁

マイクロエレクトロニクスの用途のための現像液に可溶なアルコキシド金属塗布膜例文帳に追加

DEVELOPER-SOLUBLE METAL ALKOXIDE COATING FOR MICROELECTRONIC APPLICATION - 特許庁

基板適合性が改善されたアンモニア不含アルカリ性マイクロエレクトロニクス洗浄組成物の使用例文帳に追加

USE OF AMMONIA-FREE ALKALINE MICROELECTRONIC CLEANING COMPOSITION WITH IMPROVED SUBSTRATE COMPATIBILITY - 特許庁

マイクロエレクトロニクス及びオプトエレクトロニクス向けSOI基板の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR-ON-INSULATOR (SOI) SUBSTRATE FOR MICROELECTRONICS AND OPTOELECTRONICS - 特許庁

マイクロエレクトロニクス用基板の処理方法及び該方法により得られた基板例文帳に追加

PROCESS FOR TREATING SUBSTRATES FOR MICROELECTRONICS INDUSTRY, AND SUBSTRATES OBTAINED BY THIS PROCESS - 特許庁

マイクロエレクトロニクスデバイスをカプセル封止するように、あるいはマイクロエレクトロニクスデバイスの一部分であるように意図された少なくとも1つの空洞を閉鎖する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of closing at least one void to capsulate a microelectronics device or intended to be a part of the microelectronics device. - 特許庁

マイクロエレクトロニクスデバイス本体と封止層との静電容量結合が少なく、かつ短絡によるデバイスの故障がないマイクロエレクトロニクスデバイスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a microelectronic device without causing failure of the device by a short circuit, due to reduced capacitance bonding between a microelectronic device body and a sealing layer. - 特許庁

集積型マイクロエレクトロニクス構成要素は、無線周波数電磁波用の伝送線路素子を形成する導体(3)を含む。例文帳に追加

An integration type microelectronics element contains a conductor (3) which forms the transmission line element for radio-frequency electromagnetic waves. - 特許庁

半導体ウェハの洗浄装置とその洗浄方法、及びマイクロエレクトロニクス用基板の製造方法例文帳に追加

CLEANING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE FOR MICROELECTRONICS - 特許庁

電磁ノイズをフィルタするための集積型マイクロエレクトロニクス構成要素、およびそれを備える無線周波数伝送回路例文帳に追加

INTEGRATION TYPE MICROELECTRONICS ELEMENT FOR CARRYING OUT FILTER OF ELECTROMAGNETIC NOISE, AND RADIO-FREQUENCY TRANSMISSION CIRCUIT EQUIPPED WITH IT - 特許庁

マイクロエレクトロニクス製造において使用に,より好適なよりよい性質の,低水素量の窒化ケイ素材の生成のためのプロセスを提供する。例文帳に追加

To provide a process for producing low hydrogen-content silicon nitride materials which are used more suitably for the manufacture of microelectronics and which have better properties. - 特許庁

照明ソリューション用のスケーラブルな放熱性マイクロエレクトロニクス集積プラットフォーム(SHDMIP)及びその製造方法例文帳に追加

SCALABLE HEAT DISSIPATING MICROELECTRONIC INTEGRATION PLATFORM (SHDMIP) FOR LIGHTING SOLUTIONS AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

本発明の複合材料は、マイクロエレクトロニクスデバイス、半導体要素、及び光電子要素に有用である。例文帳に追加

The composite material is useful for a microelectronic device, a semiconductor element and a photoelectronic element. - 特許庁

表側と裏側を有する基板を含むマイクロエレクトロニクス・デバイス用の基板貫通の相互接続部を形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming the interconnection of substrate penetration for a microelectronic device including a substrate (30) having a surface and back side. - 特許庁

生物要素検出用トランジスタを備えたマイクロエレクトロニクス装置を製造するための新規の方法を提供する。例文帳に追加

To provide a new method for manufacturing a microelectronics device provided with biological material detecting transistors. - 特許庁

表側と裏側とを有する基板を含むマイクロエレクトロニクス・デバイスに基板を貫通する相互接続部を形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming the through-substate interconnection for a microelectronic device including a substrate having surface and back sides. - 特許庁

並置されたゲートを有するトランジスタを備えるマイクロエレクトロニクス不揮発性メモリデバイスを作る方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for fabricating a micro-electronics nonvolatile memory device including a transistor having juxtaposed gates. - 特許庁

高降伏電圧を持つGaN系スイッチング素子を構成できるマイクロエレクトロニクス素子構造を提供すること。例文帳に追加

To provide a micro-electronics element structure capable of forming a GaN-based switching element having a high breakdown voltage. - 特許庁

該放射線硬化型熱転写素子は、有機マイクロエレクトロニクスデバイスを作製するためのプロセスで用いることができる。例文帳に追加

The radiation curable thermal transfer element can be used in processes for manufacturing an organic microelectronic device. - 特許庁

ドラッグデリバリーシステム、マイクロエレクトロニクスなどへの応用が期待されるカーボンマイクロチューブの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a carbon microtube expected to be applied for a drug delivery system, a microelectronic or the like. - 特許庁

有機マイクロエレクトロニクスデバイスを製造する目的で放射線硬化型熱転写素子を製造及び利用する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing and using a radiation curable thermal transfer element in order to manufacture an organic microelectronic device. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス工業分野などにおいて発生する固形微粒子が懸濁した排水を、効率良く処理する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently treating waste water in which solid particulates generated in a microelectronic industry field, etc., are suspended. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス基板、特にFPDマイクロエレクトロニクス基板用の、本質的に完全にかかる基板を洗浄でき、実質的にかかる基板の金属要素の金属腐食をもたらさないアルカリ含有洗浄組成物、および洗浄組成物の使用方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning composition containing alkaline which can essentially completely clean such substrates as for microelectronics substrates, particularly for FPD microelectronics substrates, and does not substantially cause metal corrosion of metal elements in such substrates; and to provide usage of the cleaning composition. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス分野に応用が期待されている単結晶の窒化インジウムナノチューブの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing single crystal indium nitride nanotubes which are expected to be utilized in the microelectronics and opto-electronics fields. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス部品用材料、高性能セラミックス、オプトエレクトロニクス部品用材料、触媒等として有用なコバルトのナノワイヤーを包含した窒化ホウ素ナノチューブを提供する。例文帳に追加

To provide a boron nitride nanotube including a cobalt nanowire and useful as a microelectronic component material, a high-performance ceramic, an optoelectronic component material, a catalyst, etc. - 特許庁

高い誘電率を有するパイロクロール構造のセラミック酸化物材料を形成するプロセスおよびマイクロエレクトロニクス用途のためのこのプロセスの実施例文帳に追加

PROCESS FOR FORMING CERAMIC OXIDE MATERIAL WITH PYROCHLORE STRUCTURE HAVING HIGH DIELECTRIC CONSTANT AND IMPLEMENTATION OF THE PROCESS FOR APPLICATION IN MICROELECTRONICS - 特許庁

マイクロエレクトロニクス及びオプトエレクトロニクス向けSOI(SEMICONDUCTOR‐ON‐INSULATOR)基板の製造方法に関連し、単一基板上において、電子及びフォトニック部品のコインテグレーションを可能にする。例文帳に追加

To allow the co-integration of electronic and photonic components on a single substrate with respect to a method for manufacturing a SOI substrate for microelectronics and optoelectronics. - 特許庁

LEDに対する優れた放熱性と防護性を有することにより,LEDの寿命をのばすことができる,スケーラブルな放熱性マイクロエレクトロニクス集積プラットフォーム(SHDMIP)のLEDパッケージを提供する。例文帳に追加

To provide a Scalable Heat Dissipating Microelectronic Integration Platform (SHDMIP) LED package having excellent heat dissipation and protection to LED, thus extending the lifespan of the LED. - 特許庁

表側と裏側を有する基板(30)を含むマイクロエレクトロニクス・デバイス用の基板貫通の相互接続部(42)を形成する方法(10)を提供する。例文帳に追加

The method (10) is to form the interconnection of the substrate penetration for the microelectronic device including the substrate (30) having the surface and back side. - 特許庁

形成されるブールは、マイクロエレクトロニクス・デバイス品質を含み、例えば、1cmより大きい断面寸法、1mmを超える長さ、および1cm^2あたり10^7未満欠陥の上面欠陥密度を有する。例文帳に追加

The formed boule is of microelectronics device quality, such as having a transverse dimension greater than 1 cm, a length greater than 1 mm, and a top surface defect density of less than 10^7 defects per 1 cm^2. - 特許庁

マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス等の分野に応用が期待されている酸化インジウム系の単結晶ナノチューブとその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a single crystal nanotube of a type of indium oxide that is applicable to the field such as microelectronics, optoelectronics and the like, and to provide a method for manufacturing the same. - 特許庁

例文

本発明の好ましいフォトレジストは、所望の孤立‐密集偏向値を有するマイクロエレクトロニクスウェーハをはじめとするプロセス基体を提供することができる。例文帳に追加

A preferable photoresist can provide a process substrate such as a microelectronics wafer having a desired iso-dense bias value. - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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