「遠紫外」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

変調型遠紫外固体発光装置例文帳に追加

MODULATION TYPE FAR-ULTRAVIOLET SOLID LIGHT EMITTING DEVICE - 特許庁

遠紫外線ドライフォトリソグラフィー例文帳に追加

FAR-ULTRAVIOLET RAY DRY PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

第一の紫外線発生ランプ４０は、真空紫外域の紫外線を発生するものであり、第二の紫外線発生ランプ５０は、遠紫外域の紫外線を発生するものである。例文帳に追加

A first ultraviolet generating lamp 40 generates ultraviolet rays in the vacuum ultraviolet range, and a second ultraviolet generating lamp 50 generates ultraviolet rays in the far-ultraviolet range. - 特許庁

紫外線水処理システム及びそのシステムに用いる紫外線水処理装置並びに遠隔監視装置。例文帳に追加

ULTRAVIOLET WATER TREATMENT SYSTEM, AND ULTRAVIOLET WATER TREATMENT DEVICE AND REMOTE MONITORING DEVICE USED FOR THIS SYSTEM - 特許庁

遠紫外光を光源として用いる場合において、最優先に外部への遠紫外光の漏出を防止することができ、かつ安全に取り扱う。例文帳に追加

To prevent far ultraviolet light from leaking out with top priority when the far ultraviolet ray is used as a light source and to safely handle it. - 特許庁

紫外領域の光、特に遠紫外、真空紫外領域において、測定精度の優れた光測定装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photometric device that is superior in the measurement accuracy of light in the ultraviolet region, especially a far-ultraviolet/vacuum ultraviolet region, and to provide a photometric method. - 特許庁

光化学的に安定なエキシマレーザー用遠紫外線ペリクル例文帳に追加

FAR ULTRAVIOLET RAY PELLICLE FOR PHOTOCHEMICALLY STABLE EXCIMER LASER - 特許庁

遠紫外線カタディオプトリック・アナモルフィック・テレスコープ例文帳に追加

FAR ULTRAVIOLET RAYS CATADIOPTRIC ANAMORPHIC TELESCOPE - 特許庁

視野の照明光量を増加する遠紫外顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a far UV microscope which increases the quantity of illumination light of a visual field. - 特許庁

遠紫外線（deep ultraviolet）を用いて、白色光を効率的に生成する。例文帳に追加

To efficiently generate white light by using deep ultraviolet radiation. - 特許庁

一方、本発明による遠赤外線マスク１０は、紫外線防御機能を有するため、紫外線ダメージから皮膚を守ることができる。例文帳に追加

Meanwhile, the far-infrared mask 10 can protect the skin from damage caused by ultraviolet rays because the mask has the ultraviolet protective function. - 特許庁

殺菌力を有する紫外線ＵＶ−Ａ（近紫外線）、ＵＶ−Ｂ（中紫外線）、ＵＶ−Ｃ（遠紫外線）の３領域の波長を有する殺菌灯などを用いて行う。例文帳に追加

A germicidal lamp, etc., is used, having wave length of the three areas of ultraviolet rays UV-A(near-UV), UV-B(middle-UV), and UV-C(far-UV) which provide sterilization power. - 特許庁

かかる製造方法より製造される物品（光学素子）は、弗素系から構成されているので紫外線の吸収が小さいので、紫外光、遠紫外光、真空紫外光を利用する露光装置に適用可能である。例文帳に追加

The article (optical element) produced by the method is composed of a fluorine- based resin having low absorption of ultraviolet rays is usable in an exposure apparatus utilizing ultraviolet rays, far ultraviolet rays or vacuum ultraviolet rays. - 特許庁

遠紫外、真空紫外、軟Ｘ線領域の光の測定精度の優れた分光測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide a spectral measuring device superior in the measuring precision of light of a far ultraviolet, vacuum ultraviolet and soft X ray area. - 特許庁

紫外から遠紫外の領域においても高速で高効率なレーザビーム走査を行う方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for high-efficiently performing scanning with a laser beam at a high speed at an area from an ultraviolet area to a far ultraviolet area. - 特許庁

遠紫外・真空紫外領域の光の測定精度の優れた積分球、それを用いた分光測定装置を提供する。例文帳に追加

To provide an integrating sphere excellent in measuring precision for light in a far ultraviolet vacuum ultraviolet range, and a spectrometric instrument using the integrating sphere. - 特許庁

前記酸化処理が、フレーム処理、コロナ処理または遠紫外線照射処理であることが好ましい。例文帳に追加

Preferably, the oxidation treatment is flame processing, corona processing, or far ultraviolet radiation processing. - 特許庁

遠紫外高輝度発光する高純度六方晶窒化ホウ素単結晶粉末とその製造方法例文帳に追加

FAR-ULTRAVIOLET HIGH-LUMINESCENT LIGHT-EMITTING HIGH-PURITY HEXAGONAL BORON NITRIDE SINGLE CRYSTAL POWDER AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

１８０ｎｍ以下の遠紫外域で水などの分光測定を容易に行えるようにする。例文帳に追加

To easily perform spectrometry of water etc. in the far ultraviolet region of 180 nm or less. - 特許庁

遠紫外線領域で用いることのできる新たなフォトレジスト単量体を提供する。例文帳に追加

To provide a new photoresist monomer that can be used in the far ultraviolet ray area. - 特許庁

テレスコープ２０５は、約250nmよりも短い波長で遠紫外（ＤＵＶ）用途に関して特に有用である。例文帳に追加

The telescope 205 is especially useful for far ultraviolet rays (DUV) by wave length being shorter than about 250 nm. - 特許庁

遠紫外線領域で用いることができる新しいフォトレジスト物質を提供する。例文帳に追加

To provide novel photoresist substances which can be used in the region of far ultraviolet rays. - 特許庁

遠紫外線領域で用いることのできる新規のフォトレジスト単量体を提供する。例文帳に追加

To obtain a new photoresist monomer usable in a far ultraviolet region. - 特許庁

水に溶解した極微量の溶質成分などの遠紫外域での分光測定を可能にする。例文帳に追加

To spectrometrically measure an extremely micro amount of solute component or the like dissolved in water, in a far ultraviolet range. - 特許庁

遠紫外線などの短波長領域で強い吸収度を有する高分子を提供する。例文帳に追加

To provide a resist underlayer polymer having high absorption in a short wavelength region of far ultraviolet rays, etc. - 特許庁

この方法は、遠紫外線装置内の水の分圧を低減化することにも適している。例文帳に追加

This method is also suitable for reducing the partial pressure of water in an EUV apparatus. - 特許庁

本発明において光または放射線とは可視光、紫外光、遠紫外光、真空紫外光、Ｘ線、γ線、電子線、イオン線等を含むものである。例文帳に追加

In this method, light or radiation may be visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, vacuum ultraviolet light, X-rays, γ-rays, electron beams or ion beam. - 特許庁

量産が容易で 紫外光、遠紫外光及び真空紫外光の透過率が高い光学素子及びその製造方法、露光装置、デバイス製造方法、並びに、デバイスを提供する。例文帳に追加

To provide an optical element producible in a mass and having high transmittance of ultraviolet rays, far ultraviolet rays and vacuum ultraviolet rays, a method for producing the element, an exposure apparatus, method for producing a device and a device produced thereby. - 特許庁

紫外線の強度を広い入射角で正確に測定可能であり、かつ遠隔操作が可能な、小型で薄型の紫外線受光器及び紫外線受光装置を提供する。例文帳に追加

To allow ultraviolet intensity to be measured accurately at a wide incident angle, to allow remote control, to miniaturize, and to thin a thickness. - 特許庁

特に紫外領域の光、特に遠紫外、真空紫外領域に於て、測定精度の優れた分光測定装置及び既装置に用いられる分光器を提供する。例文帳に追加

To provide an optical spectrometer with a superior measuring accuracy in particular for light in an ultraviolet region, and in particular for light in a far ultraviolet region and a vacuum ultraviolet region, and to provide a spectroscope being employed in the spectral metering device. - 特許庁

不純物の影響を全く受けない、固有の特性を反映した高輝度遠紫外光を発光する高純度六方晶窒化ホウ素単結晶を利用した変調型遠紫外固体発光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a modulation type far-ultraviolet solid light emitting device which receives no influence of impurities, and which utilizes a high purity hexagonal boron nitride single crystal to emit a high brightness far-ultraviolet light reflecting unique characteristics. - 特許庁

プラスチック材質判別において、プラスチック材からなる物品の遠紫外スペクトルを測定し、次に、遠紫外スペクトルの吸収バンドの吸収端近傍のスペクトル特性より上記物品の材質を分別する。例文帳に追加

When sorting out the plastic material, a far-ultraviolet spectrum of an article made of the plastic material is measured, and then the material of the article is sorted out from a spectrum property near an absorption edge of an absorption band of the far-ultraviolet spectrum. - 特許庁

紫外線・赤外線遮蔽体において、紫外線、８００〜１２００ｎｍの近赤外線及び遠赤外線とを有効にかつ容易に遮蔽することができること。例文帳に追加

To effectively and easily shield ultraviolet rays, near infrared rays of 800 to 1200 nm and far infrared rays in an ultraviolet ray and infrared ray shielding body. - 特許庁

または、成膜時に基板面に遠赤外線から紫外線域までのいずれかの波長の光を照射しながら成膜する。例文帳に追加

Alternatively, film deposition is performed while the face of a substrate is irradiated with light with any wavelength in the region from far infrared radiation to ultraviolet radiation at the time of the film deposition. - 特許庁

紫外光硬化型樹脂は、回転基盤の回転により遠心力でディスクの中央部から外周部に拡散されて膜が形成される。例文帳に追加

The ultraviolet light curing resin is diffused from the center of the disk to the outer peripheral part by a centrifugal force by the rotation of the rotary board to form a film. - 特許庁

光源２０から出射される遠紫外光の内、画像露光に寄与しない非画像露光光、すなわち漏れ光を、画像露光装置１０から外部に漏らさないように、ケーシング３０及び筐体３４の内周面に遠紫外光吸収部材３６を設けた。例文帳に追加

So that non-image exposure light which does not contribute to image exposure in the far ultraviolet ray emitted by the light source 20, i.e., leak light does not leak out of the image exposing device 10, a far ultraviolet light absorbing member 36 is provided on the inner peripheral surfaces of a casing 30 and a housing 34. - 特許庁

紫外線ランプの寿命を連続的に監視することで、ランプ交換時期の目安によらず、実際の消耗時期に合わせたランプ交換を可能にするとともに、紫外線測定箇所が制約されずに遠隔的なモニターを可能にする紫外線センサを提供する。例文帳に追加

To provide an ultraviolet sensor capable of exchanging a lamp in response to an actual wastage time without estimating the exchange time of the lamp by continuously monitoring the lifetime of the ultraviolet lamp, and remotely monitoring without being restricted by the ultraviolet measurement place. - 特許庁

ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線やＦ_２エキシマレーザー等の真空紫外線を用いる、微細加工に有用な化学増幅型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a chemically amplified resist composition useful in microfabrication using far UV such as KrF or ArF excimer laser or vacuum UV such as F_2 excimer laser. - 特許庁

閃光放電当初においても、電流密度を上げずに遠紫外領域や近紫外領域の光の発光効率を高めることができる希ガス閃光放電ランプ、およびその点灯回路を提供する。例文帳に追加

To provide a rare gas flash discharge lamp and its lighting circuit that can enhance a luminous efficiency of light in a remote ultraviolet region and a near ultraviolet region without increasing current density even in starting a flash discharge. - 特許庁

カメラ本体とは別体であって、該カメラ本体の遠隔操作を行うリモコン発信装置１に於いて、紫外線強度が紫外線強度検出部２によって測定検出される。例文帳に追加

In a remote control transmitter 1 independent from the camera body and controlling the camera body remotely, intensity of UV-rays is measured at an UV-ray intensity detecting section 2. - 特許庁

また、用いる遠紫外域を含む紫外光の波長が２００〜３６５ｎｍ、その照射量がレンズ材料の膜厚１μｍ当たり、波長２５４ｎｍにおいて５０〜１００ｍＪ／ｃｍ^2であることを特徴とする。例文帳に追加

Moreover, the wavelength of the ultraviolet ray including the far ultraviolet region used is 200 to 365 nm, and the dose is 50 to 100 mJ/cm2 at the wavelength of 254 nm per film thickness of lens material of 1 μm. - 特許庁

紫外および遠紫外電磁波スペクトラム内、またはその近傍で動作する光学検査システムを透過される光のパーセンテージを増加させる技術を提供する。例文帳に追加

To provide techniques for increasing a percentage of light transmitted through an optical inspection system that operates in and near ultraviolet and far-ultraviolet electromagnetic wave spectra. - 特許庁

高い解像性と良好な保存安定性を与え、電子線、遠紫外線、極紫外線などを用いた微細加工に有用な化学増幅レジスト材料の提供。例文帳に追加

To provide a chemical amplifying resist material that provides high resolution and storage stability, and is useful for microfabrication using an electron ray, a far-ultraviolet ray, and an extreme ultraviolet ray. - 特許庁

被処理基板１３０上に遠紫外から真空紫外領域の波長で半値幅３０ｎｍ以下の単色光１３９を全面照射処理する。例文帳に追加

The entire surface of the substrate to be processed 130 is irradiation-processed with monochromatic light 139 having a wavelength in a region ranging from far-ultraviolet to vacuum ultraviolet and a half-value width of 30 nm or narrower. - 特許庁

ＫｒＦ、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線やＦ_2エキシマレーザー等の真空紫外線に対して用いられる、放射線の透過性に優れ、耐ドライエッチング性に優れたレジスト組成物の提供。例文帳に追加

To provide a resist composition which is superior in transmission of radiation and dry etching resistance and used for far-ultraviolet rays, such as those of KrF and ArF excimer lasers and vacuum ultraviolet rays, such as those of F_2 excimer laser. - 特許庁