impurityを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 7273件
CALCULATION PROGRAM OF IMPURITY CONCENTRATION IN PLATING COAT例文帳に追加
めっき被膜中の不純物濃度計算プログラム - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR INSPECTION OF IMPURITY CONCENTRATION OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加
半導体の不純物濃度検査装置及び検査方法 - 特許庁
MONITORING METHOD AND SYSTEM FOR IMPURITY CONCENTRATION例文帳に追加
不純物濃度モニター方法およびシステム - 特許庁
IMPURITY CONCENTRATION CONTROL DEVICE OF FUEL CELL SYSTEM例文帳に追加
燃料電池システムの不純物濃縮制御装置 - 特許庁
APPARATUS FOR SEPARATING IMPURITY IN METAL AND SEPARATING METHOD例文帳に追加
金属中の不純物の分離装置および分離方法 - 特許庁
IMPURITY QUANTITY MEASURING METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
不純物量測定方法およびその装置 - 特許庁
IMPURITY TEST METHOD OF PAPER FOR LAMINATED PLATE例文帳に追加
積層板用原紙のきょう雑物試験方法 - 特許庁
SIMULATION METHOD FOR IMPURITY IMPLANTATION例文帳に追加
不純物注入シミュレーション方法 - 特許庁
Impurity of gas is contained in the exhaust gas and in the exhaust water.例文帳に追加
排気及び排水には、ガスの不純物が含まれる。 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING CONCENTRATION OF IMPURITY IN SILICON WAFER例文帳に追加
シリコンウェハの不純物濃度測定方法 - 特許庁
METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING IMPURITY CONCENTRATION IN SUBSTRATE例文帳に追加
基板中の不純物濃度測定方法およびその装置 - 特許庁
IMPURITY ACTIVATING THERMAL PROCESSING METHOD AND THERMAL PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
不純物活性化熱処理方法及び熱処理装置 - 特許庁
METHOD FOR REFINING MOLTEN IRON HAVING LITTLE IMPURITY UNDER REDUCED PRESSURE例文帳に追加
不純物の少ない溶鉄の減圧精錬方法 - 特許庁
TRACE AMOUNT IMPURITY QUANTIFYING METHOD IN INORGANIC MATERIAL例文帳に追加
無機材料中の微量不純物定量方法 - 特許庁
METHOD OF QUANTIFYING IMPURITY IN SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加
半導体基板表面の不純物定量方法 - 特許庁
IMPURITY INTRODUCTION METHOD, DEVICE AND ELEMENT例文帳に追加
不純物導入方法、装置および素子 - 特許庁
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SURFACE IMPURITY RECOVERING DEVICE例文帳に追加
半導体基板表面不純物回収装置 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING IMPURITY FROM SOLVENT EXTRACTION SOLUTION例文帳に追加
溶媒抽出液から不純物を除去するための方法 - 特許庁
For example, when the impurity layer (8) is disposed between the p-type cladding layer (18) and the waveguide layer (6), the impurity concentration of the impurity layer (8) is ≥1/10 to ≤1/2 of the impurity concentration of the p-type cladding layer (18).例文帳に追加
不純物層(8)は、例えば、p型クラッド層(18)と導波層(6)との間に設けられる場合に、その不純物濃度が、p型クラッド層(18)の不純物濃度の10分の1以上かつ2分の1以下である。 - 特許庁
IMPURITY MONITORING DEVICE AND METHOD FOR BOILER WATER SYSTEM例文帳に追加
ボイラ水系の不純物監視装置及び方法 - 特許庁
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