あきそぐらふの英語

フッ化物結晶からなる光リソグラフィー用光学部材の評価方法において、光学部材の結晶面方位を測定する工程と、測定の結果に基づいて双晶の領域を特定する工程とを有する構成とする。例文帳に追加

A method of evaluating an optical member for photolithography composed of the fluoride crystal includes a step of measuring the crystal plane orientation of the optical member, and a step of specifying a twin crystal area based on the results of the measurement. - 特許庁

主面上に複数の凹凸を有する半導体素子用単結晶サファイア基板において、該凹凸の形成にリソグラフィー法として、ナノインプリント法を用いる。例文帳に追加

The concave and convex portions are formed by nano-imprint lithography. - 特許庁

本発明のリソグラフィー用ペリクルは、少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリクル膜が、非晶質パーフルオロポリマーからなり、該ポリマーの末端基がフッ素化されていることを特徴としている。例文帳に追加

In the pellicle for lithography consisting essentially of a pellicle membrane and a pellicle frame, the pellicle membrane stretched on the pellicle frame comprises an amorphous perfluoropolymer and the terminal groups of the perfluoropolymer have been fluorinated. - 特許庁

鉱毒激甚地であった当時の安蘇郡植野村字船津川地区（現佐野市船津川町）の死産率は明らかに全国平均を超えていることも鉱毒事務所は指摘している。例文帳に追加

The office of mining pollution pointed out that the stillbirth rate of the then Funatsugawa area of Ueno Village, Aso County (present Funatsugawa-cho, Sano City), which was one of heavily polluted areas, clearly exceeded the national average.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

鉄、ニッケル、コバルトからなる元素群から選ばれた１種以上の金属元素と炭素との共晶点組成を含む組成の共晶合金からなる球状の強磁性金属核と、上記球状強磁性金属核の表面の全面を被覆する該強磁性金属元素と炭素とを含有する液滴から析出した炭素からなる殻とを具備することを特徴とする炭素被覆形強磁性金属球形粒子。例文帳に追加

The particle includes a spherical ferromagnetic metal nucleus composed of an eutectic alloy of a composition including an eutectic point composition of one or more metallic elements selected from the element group consisting of iron, nickel and cobalt, and carbon, and a shell composed of the carbon precipitated from a liquid droplet containing a ferromagnetic metal element and carbon coating the entire surface of the spherical ferromagnetic metallic shell. - 特許庁

アクティブ素子アレイの製造方法であって、画素電極を形成する工程と、非晶質透明導電膜を成膜した後、前記非晶質透明導電膜をフォトリソグラフィー法で前記画素電極を同じパターンに形成する工程を有するアクティブ素子アレイの製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing an active element array includes a process of forming pixel electrodes and a process of forming an amorphous transparent conductive film and then patterning the amorphous transparent conductive film into the same pattern as the pixel electrodes by a photolithographic method. - 特許庁

フォトリソグラフィーにより化学増幅型レジストパターンを形成する方法において、基板上に化学増幅型レジスト膜を形成したのち、その上に、該レジスト膜の厚さ以下の厚さを有する非晶性ポリオレフィン類からなる皮膜を形成し、次いで潜像パターンの形成、該皮膜の除去及び現像処理を順次施し、化学増幅型レジストパターンを形成する。例文帳に追加

In the method for forming a chemical amplification type resist pattern by photolithography, a chemical amplification type resist film is formed on a substrate, a coating comprising amorphous polyolefins and having a smaller thickness than the resist film is formed on the resist film and the formation of a latent image pattern, the removal of the coating and development are successively carried out to form the objective chemical amplification type resist pattern. - 特許庁

非晶質シリコン膜１２ａは、フォトリソグラフィ処理でＷａの３倍の幅寸法４５ｎｍでパターニングされるが、スリミング技術で３０ｎｍに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜１５に変質させ、これによって寸法がＷａである１５ｎｍに形成される。例文帳に追加

The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm. - 特許庁