いるそぐらじんの英語

リソグラフィ装置は、パターン化機器を支持するように構築された支持部又は基板テーブル或いは投影システム若しくはそれらの任意の組合せに真空環境を提供するための真空ハウジングを備えている。例文帳に追加

The lithography equipment comprises a vacuum housing for providing a vacuum environment for a supporting portion or a substrate table structured such that a patterning apparatus is supported, a projection system, or its arbitrary combination. - 特許庁

織部の弟子である小堀遠州は作庭の名人として知られるが、席中の花と庭園の花が重複することは興を削ぐとして禁止し、以後の茶道界の大部分で慣習となっている。例文帳に追加

Enshu KOBORI, a disciple of Oribe, known as the master of landscape gardening, forbade overlapping of the flowers in a tea ceremony and those in the garden as it would spoil the interest, consequently it became a custom in most of the later tea ceremony world.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

１９３ｎｍイメージング放射線を用いる高解像リソグラフィ性能を可能にする、改善された解像度を有するフォトレジスト組成を提供すること。例文帳に追加

To provide a photoresist composition having so improved resolution as to enable high resolution lithography performance using imaging radiation of 193 nm. - 特許庁

真空ハウジングの内部には、リソグラフィ処理の第１のプロセス・モードで使用するための流体及び／又は電気信号を移送するための複数の移送回路が収納されている。例文帳に追加

In the vacuum housing, a plurality of transporting circuits for transporting fluids and/or electrical signals for use in the first process mode of a lithography process are housed. - 特許庁

フォトリソグラフィーを用いることなく高密度、微小配線を提供することが可能であるウェハレベル、チップスケール半導体デバイスパッケージング組成物、およびこれに関する方法を提供する。例文帳に追加

To provide wafer level, chip scale semiconductor device packaging compositions capable of providing high density, small scale circuitry lines without the use of photolithography, and a method relating thereto. - 特許庁

携帯端末装置の自己位置から一定の距離以内に位置情報を有する秘匿対象者がいる場合、携帯端末装置の自己位置から一定の距離以上に位置情報を有する秘匿対象者の個人情報の表示を秘匿することによって、その場所にそぐわない表示情報を自動的に隠すことを可能にする。例文帳に追加

To automatically conceal display information, which is not suitable for a place, by concealing display of personal information of a person for secrecy having positional information within a fixed distance or longer from the position of a mobile terminal apparatus when the person for secrecy having positional information is located within the fixed distance from the position of the mobile terminal apparatus. - 特許庁

複数の移送回路のうちの少なくとも１つは、リソグラフィ装置を真空動作状態にする第２のプロセス・モードで使用するために、真空ハウジングのガス放出を誘導するべく真空ハウジングの内部へ向けてエネルギーを移送するようになされている。例文帳に追加

At least one of the plurality of transporting circuits is for transporting energy toward the interior of the vacuum housing in order to guide the gas evolution of the vacuum housing for use in the lithography equipment in the second process mode for allowing the lithography equipment to be in a vacuum operation state. - 特許庁

（集積回路の製造に通常使用される）化学増幅レジストにおける、５０ｎｍ（以下）のハーフピッチ・フィーチャーのリソグラフィ・イメージングが、低温露光後処理と低活性エネルギー化学増幅レジストを用いることによって可能になる。例文帳に追加

Lithographic imaging of a 50 nm (or less) half-pitch feature in a chemically amplified resist (usually used in the manufacture of an integrated circuit) is made possible by the use of reduced temperature post-exposure processing and a low activation energy chemically amplified resist. - 特許庁