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すらりーばくやくの英語
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「すらりーばくやく」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
スラリー爆薬組成物例文帳に追加
SLURRY EXPLOSIVE COMPOSITION - 特許庁
爆薬スラリーの燃焼装置例文帳に追加
EXPLOSIVE SLURRY COMBUSTION DEVICE - 特許庁
低コストで安全な装填が行えるスラリー爆薬を提供すること。例文帳に追加
To provide a slurry explosive which can be safely loaded at a low cost. - 特許庁
炸薬や火薬、爆薬、ガス発生剤の点火薬、火薬類含有廃液及びもしくは化学系廃液等の発火・爆発性物質の廃棄に際し、これらを除去した際の廃棄処理水の爆薬スラリーを供給して燃焼させる爆薬スラリーの燃焼装置を提供する。例文帳に追加
To provide an explosive slurry combustion device to which the explosive slurry of waste disposal water in removing combustible-explosive substance, is supplied to be burned in disposing of the combustible-explosive substances such as charge, explosive, detonating explosive, ignition charge of gas generator, explosive-containing waste liquid and chemical waste liquid. - 特許庁
経時安定性の優れた機械装填可能なスラリー爆薬を提供すること。例文帳に追加
To provide a slurry explosive having excellent aging stability and capable of machine-loading. - 特許庁
貯留槽２に貯留させた爆薬スラリーを移送ポンプ３により流動床燃焼炉１の流動床４の上部に供給する。例文帳に追加
The explosive slurry stored in a storage tank 2 is supplied to an upper portion of a fluidized bed 4 of a fluidized bed combustion furnace 1 by a transfer pump 3. - 特許庁
流動床４が流動化して攪拌されると内部温度が上昇して、供給された爆薬スラリーが燃焼する。例文帳に追加
When the fluidized bed 4 is fluidized and stirred, an internal temperature is raised, and the supplied explosive slurry is burned. - 特許庁
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「すらりーばくやく」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
酸化剤、水、粘稠剤からなるスラリー爆薬組成物であって、水の含有が１０〜３５重量％であり、粘稠剤にエーテル化度０．５５〜０．８５、粘度２，０００〜２０，０００ｍＰａ・ｓのカルボキシメチルセルロースナトリウムを使用する。例文帳に追加
The slurry explosive composition comprises an oxidizer, water, and a viscous agent, where the water content is 10-35 wt.% and sodium carboxymethyl cellulose with a degree of etherification of 0.55-0.85 and viscosity of 2,000-20,000 mPa×s is used as the viscous agent. - 特許庁
前記感圧接着剤１１５はさらに、少なくとも約４日間ｐＨが４以上の研磨スラリ媒体に曝露しても、前記化学機械研磨パッド１００が前記研磨盤から剥離することが実質的に防止できる界面を形成するように構成されている。例文帳に追加
The pressure sensitive adhesive 115 is further constituted so as to form an interface capable of substantially preventing the chemical mechanical polishing pad 100 from being delaminated from the polishing platen even when it is exposed to a polishing slurry medium having pH of ≥4 at least for four days. - 特許庁
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