緻密板の英語

樹脂基板上に高い密着性と緻密性を有する光学薄膜を成膜する。例文帳に追加

To deposit optical thin films having high adhesion and denseness on a resin substrate. - 特許庁

緻密、かつ、基板への密着性の良い焼結層の製造方法及び構造体を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a sintered layer that is dense and has excellent adhesion to a substrate, and a structure. - 特許庁

そして、前記緻密膜は、前記主板部上に膜生成を行うことによって形成された膜である。例文帳に追加

The dense film is formed by film growth on the main plate part. - 特許庁

支持基板１０の「一対の端部」は、緻密な「絶縁体」（固体電解質膜４０）で覆われる。例文帳に追加

The "pair of ends" of the support substrate 10 is covered with a dense "dielectric" (solid electrolyte membrane 40). - 特許庁

簡単な工程で、基板上に配向性の高い緻密な薄膜を製造する方法を提供する。例文帳に追加

To produce a dense thin film having a high orienting property on a substrate in simple steps. - 特許庁

鋼板の両面に粉砕粉を焼結後、軸受合金層を押圧して緻密化する。例文帳に追加

After sintering of the pulverized powder on both sides of the steel plate to form the bearing alloy layers, the bearing alloy layers are pressed and densified. - 特許庁

高純度で緻密で高い熱伝導率を有する光学反射ミラー基板の提供。例文帳に追加

To provide a high-purity and dense optical reflection mirror substrate havings a high heat conductivity. - 特許庁

半導体基板１０上に多孔質絶縁膜５４を形成する工程と、多孔質絶縁膜の表層部を緻密化する緻密化処理を行うことにより、多孔質絶縁膜５４の表層部に、多孔質絶縁膜より密度の高い緻密層５６を形成する工程とを有している。例文帳に追加

The manufacturing method of semiconductor device comprises steps of: forming a porous insulating film 54 on a semiconductor substrate 10; and forming a dense layer 56 having higher density than that of the porous insulating film on the front surface of the porous insulating film 54, by conducting the process to give higher density to the front surface of the porous insulating film. - 特許庁