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ちれおぐろぶりんの英語
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「ちれおぐろぶりん」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 133件
分子量分布曲線：Ｘ軸にｌｏｇ_１０Ｍ、Ｙ軸にｄ（ｗ）／ｄ（ｌｏｇ_１０Ｍ）を取ったグラフエチレン含有量曲線：Ｘ軸にｌｏｇ_１０Ｍ、Ｙ軸にエチレン含有量ｗ（重量％）を取ったグラフＥｐ＞Ｅｈ＞Ｅｅ ・・・（１）Ｅｐ：ｄ（ｗ）／ｄ（ｌｏｇ_１０Ｍ）ピーク値におけるエチレン含有量ｗ（重量％）Ｅｈ：ｄ（ｗ）／ｄ（ｌｏｇ_１０Ｍ）ピーク値の１／２におけるｌｏｇ_１０Ｍの大きい側のエチレン含有量ｗ（重量％）Ｅｅ：分子量分布曲線とエチレン含有量曲線の交点で、ｌｏｇ_１０Ｍの大きい側のエチレン含有量ｗ（重量％）（ｄ（ｗ）／ｄ（ｌｏｇ_１０Ｍ）は、単位ｌｏｇ_１０Ｍあたりのエチレン含有量ｗの重量分率である。）例文帳に追加
d(w)/d(log10M) is the weight fraction of the ethylene content (w) per unit long10M. - 特許庁
ジポリヒドロキシステアリン酸ポリオキシエチレンと１，１−メチレン−ビス（４−イソシアネートシクロヘキサン）ポリプロピレングリコール共重合体とをＯ／Ｗ或いはＷ／Ｏ／Ｗ等の乳化物に含有させる。例文帳に追加
A polyoxyethylene dipolyhydroxystearate and a 1,1-methylene- bis(4-isocyanatocyclobexane)polypropylene glycol copolymer are incorporated into an emulsion comprising e.g. an O/W or W/O/W emulsion. - 特許庁
−２．４＜ｆ１／ｆｗ＜−２．０ （１）ただし、ｆ１：第１レンズ群Ｇ１の焦点距離ｆｗ：広角端における全系の焦点距離例文帳に追加
In the formula (1), f1 represents the focal length of the first lens group G1, and fw represents the focal length of the entire system at the wide-angle end, respectively. - 特許庁
ポリエチレン主鎖に不飽和ホスホン酸エステル単量体及び無水マレイン酸にグラフトされ、Ｍｗが５,０００〜５００,０００であるエチレン系グラフト共重合体。例文帳に追加
In the ethylenic graft copolymer having an Mw of 5,000-500,000, an unsaturated phosphonate monomer and maleic anhydride are grafted to the polyethylene main chain. - 特許庁
（Ａ）ＨＬＢ値が１５以上であるポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、（Ｂ）シリコーン油、及び（Ｃ）ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ソルビトール、マルチトール、イソプレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンメチルグルコシドからなる群より選択される１種又は２種以上の多価アルコールを含有することを特徴とするＷ／Ｏ／Ｗ型複合エマルジョン。例文帳に追加
The W/O/W type complex emulsion comprises (A) a polyoxyethylene hydrogenated castor oil having an HLB value of 15 or more, (B) a silicone coil, and (C) one or mere polyhydric alcohols selected from the group consisting of dipropylene glycol, propylene glycol, glycerin, diglycerin, sorbitol, maltitol, isoprene glycol, polyethylene glycol, and polyoxyethylene methylglucoside. - 特許庁
レール４の搬送路９に投入されたワークＷの群は、搬送路９に沿って移動する途次において一列に整列させられる。例文帳に追加
Groups of the works W fed into the carrier passage 9 of the rail 4 are aligned in a row while moved along the carrier passage 9. - 特許庁
延伸性、フィブリル化性および非溶融二次加工性を有するテトラフルオロエチレン重合体であって、該重合体が２．１６０以下の標準比重、３．２６ｋｇｆ（３２．０Ｎ）〜５．０ｋｇｆ（４９．０Ｎ）の破断強度を有するテトラフルオロエチレン重合体とする。例文帳に追加
The tetrafluoroethylene polymer has a stretchability, fibrillation properties, and non-melting fabricability, and a standard specific gravity of ≤2.160 and a breaking strength of 3.26 kgf (32.0 N) to 5.0 kgf (49.0 N). - 特許庁
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「ちれおぐろぶりん」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 133件
予め定めた一連の動作を行うために基準となる作業時間内において、全アクチュエータでの累積仕事量ΣＷ_ＡＣＴを算出し（Ｓ１１０）、且つ、累積燃料消費量ΣＷ_ＦＵＥＬを求める（Ｓ１４０）。例文帳に追加
The display device calculates the accumulated work amount ΣW_ACT in all actuators (S110) within the working time for the reference to execute a series of predetermined actions, and obtains the accumulated fuel consumption ΣW_FUEL (S140). - 特許庁
この組成物は、エチルアルコール６０〜８０Ｗ／Ｖ％水溶液中に、オラネキシジン酸付加塩０．０５〜５Ｗ／Ｖ％を、前記ポリオキシエチレングリコール型非イオン界面活性剤０．１〜１０Ｗ／Ｖ％により可溶化せしめた液剤として有利に提供し得る。例文帳に追加
The composition is advantageously obtained as a solution prepared by solubilizing 0.05-5 W/V% of the acid addition salt of 1-(3,4-dichlorobenzyl)-5-octylbiguanide in 60-80 W/V% of an aqueous solution of ethyl alcohol by 0.1-10 W/V% of the polyoxyethylene glycol type nonionic surfactant. - 特許庁
管腔内医療装置５０及びブリッジ１５０は生体適合性金属材料で構成され、歪み集中ブリッジ１５０は軸方向隣接セグメントの歪み閾値レベルよりも低い歪み閾値レベルを有する。例文帳に追加
The intraluminal device 50 and the strain concentrating bridge 150 are comprised of biocompatible metal materials, wherein the strain concentrating bridge 150 has a threshold level of strain less than that of the axially adjacent segments 100. - 特許庁
ＳＲＡＭにおいて、タイミングジェネレータ２０は、書込データＤＩの遷移点に応答して「Ｈ」レベルに立上がり、外部制御信号／ＷＥが「Ｈ」レベルに立上がる前に「Ｌ」レベルに立下がる信号ＷＤＬを生成する。例文帳に追加
In a SRAM, a timing generator 20 generates a signal WDL which rises to a 'H' level responding to a transition point of write-in data DI and falls to a 'L' level before an external control signal /ME rises to a 'H' level. - 特許庁
これらの炉心流量設定値は、炉心入口冷却水温度がキャビテーションが発生しない上限の温度以下でこの上限温度により近くなるように設定され、Ｗ_１＜Ｗ_２の関係にある。例文帳に追加
These core flow rate set values, which have relations of W_1<W_2, are set so that the core inlet cooling water temperature is not higher than an upper limit temperature up to which cavitation does not take place and closer to the upper-limit temperature. - 特許庁
オキシメチレン成分ａとこれ以外のオキシアルキレン成分ｂの挿入割合（ｂ／ａ）が０．３〜１．１ｍｏｌ％であり、ケイ酸塩を４０〜３００ｗｔｐｐｍ、ハイドロタルサイトを０．０１〜２ｗｔ％含有し、ＭＦＲが２〜３５ｇ／１０ｍｉｎであるオキシメチレン樹脂組成物からなる樹脂製容器。例文帳に追加
The resin container is made of an oxymethylene resin composition wherein an insertion ratio (b/a) of an oxymethylene component (a) to an oxyalkylene component (b) other than the oxymethylene component is 0.3-1.1 mol%, the content of silicate is 40-300 wtppm, hydrotalcite is 0.01-2 wt.%, and the composition has an MFR of 2-35 g/10 min. - 特許庁
レジスト塗布装置群２０近傍にウェハＷを冷却処理する各種の冷却系処理装置を有する第１冷却処理装置群７０及び第２冷却処理装置群８０を配置し，現像処理装置群３０近傍にウェハＷを加熱処理する各種の加熱系処理装置を有する第１加熱処理装置群９０及び第２加熱処理装置群１００を配置する。例文帳に追加
A first and a second cooling processing device groups, 70 and 80, each possessed of various cooling processing apparatuses that cool down a wafer W are arranged near a resist-applying apparatus group 20, and a first and a second heating processing apparatus group, 90 and 100, each possessed of various heating processing apparatus that heat a wafer W are arranged near to a development processing device group 30. - 特許庁
このインバータ回路１１１は、ノードＢの電位ＶｂをＨｉｇｈレベルとＬｏｗレベルとの間でフルスイングさせる。例文帳に追加
The invertor circuit 111 makes the potential Vb of a node B perform full-swing between a High level and a Low level. - 特許庁
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