本発明の半導体装置１は、半導体基板５と、前記半導体基板５の一面に形成されたトレンチ７内にゲート絶縁膜７Ａを介して形成された埋込ワード線９と、前記トレンチ７内の前記埋込ワード線９上に順次積層された第一のライナー膜１０、第一の埋込絶縁膜１１、第二のライナー膜１０ａおよび第二の埋込絶縁膜１１ａからなる絶縁層２０と、を具備してなることを特徴とする。例文帳に追加

A semiconductor device 1 comprises: a semiconductor substrate 5; buried word lines 9 formed via insulating films 7A in trenches 7 formed over the semiconductor substrate 5; and insulating layers 20 composed of first liner films 10, first buried insulating films 11, second liner films 10a, and second buried insulating films 11a, which are sequentially stacked on the word lines 9 in the trenches 7. - 特許庁

例文

比定地については、檜原神社（桜井市三輪）、多神社（磯城郡田原本町多）、笠縫神社（磯城郡田原本町秦荘、秦楽寺境内南東隅）、笠山荒神社（桜井市笠）、多神社摂社の姫皇子神社、志貴御県坐神社（桜井市金屋）、小夫天神社（桜井市小夫）、穴師坐兵主神社（桜井市穴師）、飛鳥坐神社（高市郡明日香村飛鳥）、磯城の厳橿の本（垂仁天皇紀5年3月条：所在地不詳）、等々。例文帳に追加

There are various candidates for its presumed locations: Hibara-jinja Shrine (Miwa, Sakurai City), O-jinja Shrine (O, Tawaramoto-cho, Shiki-gun), Kasanui-jinja Shrine (Hananosho, Tawaramoto-cho, Shiki-gun, the southeast corner of the grounds of Jinraku-ji Temple), Kasayamako-jinja Shrine (Kasa, Sakurai City), Himemiko-jinja Shrine which is a sessha (an auxiliary shrine dedicated to a deity closely related to that of a main shrine) of O-jinja Shrine, Shiki no miagata niimasu-jinja Shrine (Kanaya, Sakurai City), Obuten-jinja Shrine (Obu, Sakurai City), Anashi niimasuhyozu-jinja Shrine (Anashi, Sakurai City), Asuka niimasu-jinja Shrine (Asuka, Asuka-mura, Takaichi-gun), the foot of the Itsukashi in Shiki (noted in March of the fifth year of Emperor Suinin's reign: the address is unknown), and others.発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス