もつれ形成の英語

ビアホールが形成された低誘電率膜の上に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるようにする。例文帳に追加

To form a resist film with a desired trench pattern on a low dielectric constant film where a via-hole is formed, by means of lithography using a chemical amplification resist. - 特許庁

ビアホールが形成された低誘電率膜の上に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるようにする。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device whereby a resist film with a desired trench pattern can be formed on a low dielectric constant film formed with a via-hole by means of lithography using a chemical amplification resist. - 特許庁

ビアホールが形成された低誘電率膜の上に、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、所望のトレンチパターンを持つレジスト膜を形成できるようにする。例文帳に追加

To form a resist film having a desired trench pattern on a low dielectric constant film, on which a via-hole is formed, by lithography employing a chemically amplified resist. - 特許庁

炭素含有シリコン酸化膜５にビアホ−ル８を形成した後、少なくともビアホ−ル８の壁面上に保護膜９を形成し、その後、化学増幅型レジストを用いたリソグラフィーにより、ビアホ−ル８が形成された領域を含むトレンチ形成領域に開口部を持つレジストパターン１０ａを形成する。例文帳に追加

The via-hole 8 is formed on a carbon containing silicone oxide film 5, thereafter, a protective film 9 is formed on at least the wall surface of the via-hole 8, and then, a resist pattern 10a, having an opening in a trench forming region including a region having the via-hole 8 therein, is formed by the lithography employing the chemically amplified resist. - 特許庁

光源であるレーザーの位置ずれの許容値を大きくできる構成を持つレーザープリンター等の画像形成装置である。例文帳に追加

To obtain an image forming device such as a laser printer having constitution by which the tolerance value of the positional deviation of a laser being a light source can be made large. - 特許庁

光源であるアレイレーザーの位置ずれの許容値を大きくできる構成を持つレーザープリンター等の画像形成装置である。例文帳に追加

To obtain an image forming device such as a laser printer having constitution by which the tolerance value of the positional deviation of an array laser being a light source can be made large. - 特許庁

少なくとも前記螺旋部を筒状に覆う筒部と、前記筒部の少なくとも一方の端部に形成され、前記金具部に着接するための止着部とを備える、もつれ防止具を提供する。例文帳に追加

The kinking prevention tool is provided with a tubular part covering at least a spiral part in a tubular form and an attachment part which is formed at at least one end of the tubular part and is used for attachment to a metal fitting part. - 特許庁

解像度と焦点深度とを同時に満たし、露光波長の（１／２）未満の最小サイズを持つレジストパターンを形成し得る方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for realizing a formation of a resist pattern having a minimum size of less than an exposure wavelength (1/2) by simultaneously satisfying a resolution and a focal depth. - 特許庁