アニール特性の英語

アニール処理による圧電アクチュエータの圧電特性の低下を抑制できる。例文帳に追加

The degradation of piezoelectric characteristics of the piezoelectric actuator due to the annealing process can be suppressed. - 特許庁

アニールするウェーハの（１００）からの傾斜角度と、アニール後の表面に発生するヘイズとの関係を明らかにし、ヘイズの発生を抑制するのに最適な傾斜角度を設定し、ヘイズが抑制され、結果としてデバイス特性を向上させることのできるアニールウェーハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an annealed wafer manufacturing method which clarifies the relations of the off angle of a wafer from its plane (100) with the haze appearing on the annealed surface to set an optimum off angle for suppressing the haze, resulting in improved device characteristics. - 特許庁

アニール後の残留ボイド、およびアニールウエハに形成した酸化膜のＴＤＤＢ特性劣化を回避し、シリコン単結晶に含有可能な窒素濃度範囲を拡張することが可能となるアニールウエハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing an anneal wafer which allows for extension of the concentration range of nitrogen that can be contained in a silicon single crystal by avoiding the residual voids after annealing, and the TDDB characteristic deterioration of an oxide film formed on the anneal wafer. - 特許庁

特性回復部には、アニール用定電流源３１Ｂと、放射線の非測定時において単位画素２０からの電流流路をアニール用定電流源３１Ｂ側に切り換えるための切換えスイッチ３２とが含まれる。例文帳に追加

The characteristic recovery section includes an annealing constant current source 31B, and a change-over switch 32 changing over a current flow passage from the unit pixel 20 to the annealing constant current source 31B side when the radial ray is not measured. - 特許庁

ＴＦＤが形成される素子基板２００の製造プロセスのうち、ＴＦＤの特性に大きく影響を与える熱処理は、プレアニールおよびアニールＡである。例文帳に追加

Heat treatments, which are largely influential on characteristics of a TFD among the manufacturing processes for element substrates 200 where the TFD is formed, are pre-annealing and annealing A. - 特許庁

高圧水蒸気アニール処理等のアニール処理工程を、過不足なく適正化できるようにし、これによって良好な特性の半導体装置を製造することのできる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of achieving an appropriate annealing process, such as high-pressure steam annealing process, to be within a proper range and thereby enable manufacturing of semiconductor device having proper characteristics. - 特許庁

高温で光ディスク基板にアニール処理を施しても、光ディスク基板の機械特性の劣化を防止することができるアニール装置及び光ディスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an annealing device and a manufacturing method of an optical disk capable of preventing the deterioration of mechanical performance of an optical disk substrate even though the annealing treatment is applied on the optical disk substrate at a high temperature. - 特許庁

レーザー光による各種アニールを用いて作製される半導体デバイスの特性を均一なものとする。例文帳に追加

To make uniform the characteristics of semiconductor devices manufactured by using various annealing processes using a laser light. - 特許庁