アルゴン含有のの英語

アルゴンガスの不純物含有率を効果的に低減することで、その後の吸着処理の負荷を低減し、精製に要するエネルギーを少なくしてアルゴンガスを高純度に精製できる実用的な方法と装置を提供する。例文帳に追加

To provide a refining method and a refining device, both being practically usable and capable of purifying an argon gas to a high purity by reducing energy for refining by effectively reducing impurity contents of the argon gas to reduce the loading of a subsequent adsorption treatment. - 特許庁

少なくとも酸素、水素、一酸化炭素、および窒素を不純物として含有するアルゴンガスを精製する際に、前記アルゴンガスにおける酸素モル濃度を一酸化炭素モル濃度と水素モル濃度との和の１／２未満に設定する。例文帳に追加

When argon gas containing at least oxygen, hydrogen, carbon monoxide and nitrogen as impurities is purified, oxygen molar concentration in the argon gas is set to <1/2 of the sum of carbon monoxide molar concentration and hydrogen molar concentration. - 特許庁

回収アルゴンガスに含有される不純物を、多くのエネルギーを要することなく除去して高純度のアルゴンガスを得ることができる実用的な精製方法と精製装置を提供する。例文帳に追加

To provide a refining method and a refining device, both practically removing impurities contained in a recovered argon gas to provide a high purity argon gas without requiring a large amount of energy. - 特許庁

アルゴンガスの不純物含有率を吸着処理の前処理段階で低減し、精製に要するエネルギーを少なくし、アルゴンガスを高純度に精製できる実用的な方法と装置を提供する。例文帳に追加

To provide a practical method and a practical device in which an impurity content of argon gas can be reduced in preprocessing stage of an absorbing processing, energy required for purification can be reduced, argon gas can be purified in high purity. - 特許庁

好ましくは、希ガスとして、クリプトン（Ｋｒ）、アルゴン（Ａｒ）、キセノン（Ｘｅ）の少なくとも何れか１つを含有する。例文帳に追加

Preferably, the rare gas contains at least one of krypton (Kr), argon (Ar) and xenon (Xe). - 特許庁

又、前記混合ガス中に、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノンの一種以上を合計で５０００ｐｐｍ以下含有させてなるものも用いる。例文帳に追加

The mixed gas contains one or more kinds among argon, helium, neon, krypton and xenon of 5,000 ppm or less in total. - 特許庁

非酸化性ガスとして水素、または、水素を主成分とし、窒素、ヘリウム、アルゴンのうちの１種以上を含有するガスを用いることができる。例文帳に追加

As the non-oxidizing gas, the one composed of hydrogen, or essentially composed of hydrogen, and comprising one or more kinds selected from nitrogen, helium and argon can be used. - 特許庁

７０ないし９８％酸素および２％未満のアルゴンを含有する不純酸素を合成ガス生産ユニット（３）に供給する。例文帳に追加

Impure oxygen comprising 70-98% of oxygen and <2% of argon is supplied to a unit 3 for producing a synthetic gas. - 特許庁