アルゴン18の英語

これはステージ１４で半導体基板１５を冷却するために、ステージ１４上に刻まれたチャネル１７にガス配管１８を通して冷却媒介用のガス、例えばヘリウム、アルゴン等の不活性ガスを流す。例文帳に追加

In order to cool a semiconductor substrate 15 with the stage 14, inert gas for cooling medium such as helium and argon is made to flow through a gas piping 18 to a channel 17 notched on the stage 14. - 特許庁

このコレクターレンズ１６を通過したアルゴンレーザー光の光路１２の一部を遮断するように遮光板１８を設置し、本発明の位相差欠陥検査装置を得る。例文帳に追加

A light shielding plate 18 is installed so as to shut off part of an optical path 12 of the argon laser beam past the collector lens 16, by which the phase difference defect inspection device described above is obtained. - 特許庁

素子孔１２ａ内にレジスト層１６をマスクとし且つ酸化膜１４ａを介してアルゴン（又はフッ素）イオンを１又は複数回の注入処理により注入してイオン注入層１８を形成する。例文帳に追加

A resist layer 16 is used as a mask in an element hole 12a, and argon (or fluorine) ions are implanted via the oxide film 14a by means of an implantation treatment of one time or multiple times, to form an ion implantation layer 18. - 特許庁

スパッタリング室１１内にボンベ１８からアルゴンなどのプラズマガスを流し、スパッタリング室１１内に配置されたターゲット１２からガラス基板１５に酸化物透明導電膜材料をスパッタリングする。例文帳に追加

A plasma gas such as argon is made to flow from a bomb 18 into a sputtering room 11, and an oxide transparent conductive film material is sputtered on a glass substrate 15 from a target 12 arranged in the sputtering room 11. - 特許庁

その際に、段付き状の回転ピン１８とガスノズル１６を併用し、回転ピン１８により接合される部分の酸化皮膜を除去して新生面とした上で、ガスノズル１６からのアルゴンガスの供給により再酸化を防ぐ。例文帳に追加

In this case, a stepped rotary pin 18 and a gas nozzle 16 are jointly used, an oxidized film is removed with the rotary pin 18 in the part to be joined to make a new surface therein then argon gas is fed from the gas nozzle 16, thereby reoxidation is prevented. - 特許庁

溶接は、アルゴンが約９０％と炭酸ガスが約１０％との混合ガスＧを使用したタンデム直流方式によるＭＩＧ溶接により、外面溶接機１８による外面溶接７と、内面溶接機２１による内面溶接８との２回の溶接施工により行う。例文帳に追加

Welding is performed twice, in other words, an outer side welding 7 by an outer side welding machine 18 and an inner side welding 8 by an inner side welding machine 21 are performed by using MIG welding by the tandem DC system using mixed gas G of argon of about 90% and carbon dioxide of about 10%. - 特許庁

商用交流電圧である、６０Ｈｚ、１００Ｖを用いて約９ｋＶに昇圧し、２０ｍＡで電極２ａ、２ｂ間に印加し、アルゴンをガス導入部１８から導入すると、電極２ａ及び２ｂ間を４ｃｍ迄離間しても、プラズマが発生する。例文帳に追加

When the voltage used for the plasma generator is increased to about 9 kV by using commercial AC voltage of 60 Hz and 100 V and applying current of 20 mA between the electrodes 2a, 2b and argon is introduced from a gas inlet section 18, plasma is generated even though the electrodes 2a, 2b are separated to 4 cm. - 特許庁