イオンビームスパッタリング装置の英語

イオンビームスパッタリング装置例文帳に追加

ION BEAM SPUTTERING APPARATUS - 特許庁

イオンビームスパッタリング装置および該装置を用いたイオンビームスパッタリング方法例文帳に追加

ION-BEAM SPUTTERING APPARATUS AND ION-BEAM SPUTTERING METHOD USING THE SAME - 特許庁

特定のエネルギを有すイオンのみを選択してターゲットに照射するイオンビームスパッタリング装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion sputtering apparatus to select only the ion having a predetermined energy and irradiate a target with it. - 特許庁

この装置１０を用いて、陽極３上に蒸着法により有機ＥＬ層と、この有機ＥＬ層上にイオンビームスパッタリング法により陰極とを連続して成膜することができる。例文帳に追加

The film-forming method comprises continuously forming an organic EL layer on the anode 3 with a vacuum deposition method, and forming a cathode on the organic EL layer with an ion beam sputtering method, by using the apparatus 10. - 特許庁

イオンビームスパッタリング法を用い、製膜工程と配向工程とを同時に行う単一の工程で液晶用配向膜を形成することが可能で、かつ、基板のサイズが大きく制限されない配向膜形成装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and method for forming an alignment layer, by which an alignment layer for a liquid crystal can be formed in a single step of simultaneously carrying out a film forming step and an aligning step by using an ion beam sputtering method and the size of a substrate is not much limited. - 特許庁