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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > イオンビーム照射効果の英語・英訳 

イオンビーム照射効果の英語

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Weblio専門用語対訳辞書での「イオンビーム照射効果」の英訳

イオンビーム照射効果

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「イオンビーム照射効果」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

そして、磁気抵抗効果素子3’は、いかなる集束イオンビームもに照射されていないので、何の損傷も受けていない。例文帳に追加

The element 3' is not irradiated by any kind of focused ion beam and accordingly never damaged. - 特許庁

接地電流を測定しながら、低加速電圧イオンビーム35を上部から照射してトンネル磁気抵抗効果膜を切削していく。例文帳に追加

While the ground current is measured, in addition, the tunnel magnetoresistive effect film is machined by projecting a low-accelerating voltage ion beam 35 upon the film from the top side. - 特許庁

上方からイオンビーム等を照射することにより実装状態に近い状態で周波数調整を行なうことができるだけでなく、イオンビーム等の照射による短絡不良やマイグレーション不良を効果的に防止することができる圧電振動部品を提供する。例文帳に追加

To provide a piezoelectric vibration component whereby frequency adjustment can be carried out in a state close to a mount state by emitting ion beams or the like from an upper side of the component and also short circuit and migration defects due to the emission of the ion beams or the like can effectively be prevented. - 特許庁

エッチング速度がそれぞれ異なる2種類のエッチング効果を持ったガスクラスターイオンビームを段階的に照射してSiC基板表面をエッチングしつつ平坦化した後、酸素ガスを主成分としたガスクラスターイオンビーム照射する。例文帳に追加

The surface of an SiC substrate is flattened, by giving a gas cluster ion beam step by step that has two kinds of etching effects with different etching speeds to etch the surface thereof, and then another gas cluster ion beam, made mainly of oxygen gas is applied thereto. - 特許庁

ローバー50あるいは磁気ヘッドスライダ10の浮上面機械研磨後に、導電性スメアを除去するためにイオンビーム照射によるクリーニングを行い、イオンビーム照射により磁気抵抗効果膜5の中間層14の端面に形成されている損傷領域14aを回復させるために酸素曝露を行い、この後、浮上面保護膜7,8を形成し、続いてレール加工を行う。例文帳に追加

Cleaning by ion beam irradiation is performed to eliminate conductive smear after grinding a row bar or a floating plane of a magnetic head slider 10, oxygen exposure is performed to recover a damage region 14a formed at an end plane of an intermediate layer 14 of a magneto-resistance effect film 5 by ion beam irradiation , after that, floating plane protection films 7, 8 are formed, successively, rail processing is performed. - 特許庁

導入するガス量および一次イオンビーム照射条件を最適化することにより、化合物と基板におけるマトリックス効果を解消すると同時に、化合物膜/基板界面の位置を特定することが可能となる。例文帳に追加

By optimizing the quantity of the introduced gas and an irradiation condition of the primary ion beam, a matrix effect between the compound and the substrate is removed, and simultaneously the position of the compound film/substrate interface can be specified. - 特許庁

例文

このような保護層は、熱CVD法、プラズマCVD法、或はイオンビームや電子ビームを照射しながら蒸着する方法で形成することができ、耐スパッタリング性が高く、誘電体ガラス層の保護効果が大きいのでパネル寿命が向上する。例文帳に追加

As those protection layer, capable of forming by a thermal CVD method, a plasma CVD method, or an evaporation method with irradiation of ion beam or electron beam, has high sputtering resistant property and big dielectric glass protection effect, the life of the panel is prolonged. - 特許庁

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「イオンビーム照射効果」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 10



例文

トンネル磁気抵抗効果膜と接地電位との間を接続する接続配線33に流れる接地電流を電流計34で測定しながら、始点検出膜の上部にあるレジストを、上部からイオンビーム35を照射して切削していく。例文帳に追加

While the ground current flowing to connecting wiring 33 which connects the effect film to a ground potential is measured by means of an ammeter 34, a resist on the start-point detecting film is machined by projecting an ion beam 35 upon the resist from the top side. - 特許庁

原子間力顕微鏡探針3による機械加工で発生した加工屑5を正常パターン6やガラス基板7にはダメージを与えないが弱く付着した加工屑5は除去できるようなエネルギーを持ったガスクラスターイオンビーム1を照射してスパッタ効果で除去する。例文帳に追加

A process waste 5, produced in mechanical processing with an atomic force microscope probe 3, is irradiated with a gas cluster ion beam 1, having energy that will not damage a normal pattern 6 or a glass substrate 7, but which can remove the process waste 5 which is weakly depositing thereon, so as to remove the waste by sputtering effects. - 特許庁

例文

加速電圧を下げたSTEM観察での電子ビームの試料透過能力の低下やイオンビーム照射により生じるダメージ層の悪影響を防ぎ、試料の所望の領域への損傷を最小限にしてダメージ層を効果的に除去すること、および薄膜試料の厚さがより薄くなっても最適な加工終了時点を検出して加工失敗を防ぐ。例文帳に追加

To prevent decrease in the sample transmission capacity of electron beams in a STEM observation with decreased acceleration voltage and the bad influence of a damaged layer generated by the application of ion beams, to remove the damaged layer effectively by minimizing the damage to a desired region in a sample, and to prevent processing failure by detecting an optimum processing completion point in time even if the thickness of a thin-film sample is reduced. - 特許庁

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「イオンビーム照射効果」の英訳に関連した単語・英語表現

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