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イオン分布関数の英語
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英訳・英語 ion distribution function
「イオン分布関数」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
イオンエネルギー分布関数を測定するために１つのシステムに組合わせた少なくとも２つのイオンフラックスセンサー３３１、３３２を具備する。例文帳に追加
The system is provided with at least two ion flux sensors 331, 332 combined into one system for measuring an ion energy distribution function. - 特許庁
イオン注入分布の近似方法に関し、イオン注入分布関数を用いて所要パラメータを抽出する場合、抽出結果が抽出者の主観に左右されることなく、一義的に抽出できるイオン注入分布関数を提供する。例文帳に追加
To provide a method of approximating distribution of implanted ions, in which an implanted-ion distribution function is provided which can be unequivocally extracted while the extracted result will not be influenced by the subjectivity of the extractor in extracting required parameters, using the implanted-ion distribution function. - 特許庁
粒径が５０〜１５００μｍ、ロージン・ラムラーの分布関数の指数が３以上の粒度分布を持つ球状セルロースイオン交換体を使用する。例文帳に追加
The spherical cellulose ion exchanger having 50 to 1500 μm grain size and grain size distribution of ≥3 index of Rosin-Rammler distribution function is used. - 特許庁
イオン注入分布発生方法及びシミュレーション装置に関し、テール関数におけるイオン注入分布のテールの拡がりを表すパラメータＬの比例係数ξ_Ｌに物理的意味を持たせる。例文帳に追加
To provide an ion implantation distribution generating method and a simulation device which give a physical significance to a proportionality coefficient ξ_L of a parameter L representing the extent of the tail of an ion implantation distribution on a tail function. - 特許庁
深さ方向元素分布測定方法及び深さ方向元素分布測定装置に関し、一次イオンの収束性を高めるともに、試料表面の仕事関数を低下させて負の二次イオン化率をさらに高める。例文帳に追加
To enhance convergency of a primary ion, and to reduce a work function on a sample surface to enhance a secondary ionization rate further, as to a method and an instrument for measuring a depth-directional element distribution. - 特許庁
ウエハ面内における入射イオンエネルギーの分布関数の均一性を高め、ウエハ面内で均一なプラズマ処理（エッチング等）を実現する。例文帳に追加
To realize a uniform plasma processing (such as etching) within a wafer plane by increasing the uniformity of an incident ion energy distribution function within the wafer plane. - 特許庁
入射に関する異方性の強いイオンなどの粒子種によるプロセスに関して、それぞれ角度θおよびエネルギーＥの関数であるイオン角度エネルギー分布関数（ＩＡＥＤＦ）と、表面との作用の係数としてのエッチング・イールドのエネルギー成分とを数値積分して、エッチング・イールドの重み付けのついたイオン角度分布関数（ＥＹＩＡＤＦ）をあらかじめ作成する。例文帳に追加
About a process by a particle seed such as ion having a strong anisotropic for an entering, an ion angle energy distribution function (IAEDF) which is respectively the function of an angle θ and an energy E, and an etching yield energy component which is the coefficient of an action with respect to the surface, are numerically integrated to generate the weighted etching yield ion angle distribution function (EYIADF) in advance. - 特許庁
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「イオン分布関数」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
基体上に形成された構造体に注入され、構造体の側面から基体に再注入される再注入ドーズを算出し、分布関数と再注入ドーズの再注入条件とから、基体に注入される不純物の濃度分布を算出するイオン注入のシミュレーションを行う。例文帳に追加
An ion injection simulation method includes: calculating a reinjection dose injected into a structure formed on a substrate and reinjected from a side face of the structure to the substrate; and calculating concentration distribution of impurities injected into the substrate from a distribution function and reinjection conditions of the reinjection dose. - 特許庁
上記課題は、コンピュータが、イオン注入によって半導体基板に導入される欠陥の単位面積当たりの欠陥量Ｑ_Ｉを算出する欠陥量算出手順と、前記イオン注入によるイオン注入濃度分布において欠陥濃度分布を凝集させて位置付ける位置ｄ_Ｉを算出する欠陥位置算出手順とを実行し、前記欠陥濃度分布をデルタ関数的に扱うことにより達成される。例文帳に追加
A concentration distribution generation method and a process simulator perform a defect amount calculation procedure to calculate a defect amount Q_I per unit area of defects introduced to a semiconductor substrate by ion implantation and a defect position calculation procedure to calculate a position d_I to position by condensing a defect concentration distribution in an ion implantation concentration distribution by the ion implantation with a computer and treat the defect concentration distribution like a delta function. - 特許庁
収束イオンビーム（２’）により試料表面を精密断面加工する工程と、前記精密断面加工により得られた断面（１７）から発生する微粒子（３）を測定する工程と、前記測定によって得た値を前記収束イオンビームの深さ方向走査位置の関数として処理する工程と、を具備することを特徴とする、試料の深さ方向元素分布分析を行う方法。例文帳に追加
The method for analyzing the depth direction element distribution of a sample consists of a process subjecting the surface of a sample to precise cross-sectional processing by converged ion beam 2', a process for measuring fine particles 3 generated from the cross section 17 obtained by the precise cross-sectional processing and a process for processing the measured value as a function of the depth direction scanning position of the converged ion beam. - 特許庁
得られた二次元の質量スペクトルから質量/電荷比ごとに信号強度を二次元表示した質量分析顕微鏡像の像ボケを、一次イオンの入射点からの距離に応じた付与エネルギーについて試料分子の脱離エネルギーを超える領域で予め規定した二次元分布をボケ関数として用いて、画像復元により像ボケを低減する。例文帳に追加
Two-dimensional distribution previously specified for energy imparted depending on a distance from a primary ion injection point in a region where it exceeds the desorption energy of sample molecules is used as a blurring function for restoring an image to reduce the image blur of the mass spectrometry microscopic image which is formed by two-dimensionally displaying signal intensity with respect to each mass/charge ratio from an obtained two-dimensional mass spectrum. - 特許庁
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ion distribution function
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