キノリンカルボン酸の英語

６−置換ヘテロキノリンカルボン酸誘導体とその付加塩及びそれらの製造方法例文帳に追加

6-SUBSTITUTED HETEROQUINOLINECARBOXYLIC ACID DERIVATIVE, ITS ADDITION SALT AND PRODUCTION THEREOF - 特許庁

１，２，３，４−テトラヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸エステル類及び２，３−ジヒドロ−４（１Ｈ）−キノリノン類の製造方法例文帳に追加

METHODS FOR PRODUCING 1,2,3,4-TETRAHYDRO-4-OXO-3-QUINOLINECARBOXYLATE COMPOUND AND 2,3-DIHYDRO-4(1H)-QUINOLINONE COMPOUND - 特許庁

光学活性を誘発する７−ピロリジン置換体を持った光学活性のキノリンカルボン酸誘導体及びその製造方法例文帳に追加

OPTICALLY ACTIVE QUINOLINECARBOXYLIC ACID DERIVATIVE HAVING 7-PYRROLIDINE SUBSTITUTE INDUCING OPTICAL ACTIVITY AND A METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

キノリンカルボン酸抗菌剤を少なくとも一種類、無機酸および有機酸からなる群より選択される安定剤を少なくとも一種類含有する組成物を有してなる錠剤を調製する。例文帳に追加

This tablet containing a composition containing at least 1 kind of a quinoline carboxylic acid, at least 1 kind of a stabilizer selected from the group consisting of inorganic acids and organic acids. - 特許庁

８−シアノ−１−シクロプロピル−７−（１Ｓ，６Ｓ−２，８−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナン−８−イル）−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸の結晶変態Ｂ例文帳に追加

CRYSTAL MODIFICATION B OF 8-CYANO-1-CYCLOPROPYL-7-(1S,6S-2,8-DIAZABICYCLO[4.3.0]NONAN-8-YL)-6-FLUORO-1,4-DIHYDRO-4-OXO-3-QUINOLINE CARBOXYLIC ACID - 特許庁

（Ｒ）−１−シクロプロピル−８−ジフルオロメトキシ−７−（１−メチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−５−イソインドリル）−４−オキソ−１，４−ジヒドロ−３−キノリン−カルボン酸（以下、Ｔ−３８１１と略記）の製造中間体を提供する。例文帳に追加

To provide an intermediate for producing (R)-1-cyclopropyl-8- difluoromethoxy-7-(1-methyl-2,3-dihydro-1H-5-isoindolyl)-4-oxo-1,4-dihydro-3- quinoline-carboxylic acid (hereinafter, referred to as T-3811). - 特許庁

キノリンカルボン酸エステル（Ｉ）を、２級アミンの存在下、水素化アルミニウム錯化合物で還元することを特徴とするキノリンカルバルデヒド（ＩＩ）の製造方法。例文帳に追加

In the process for producing the objective quinolinecarbaldehyde (II) [wherein individual symbols in formulas (I) and (II) are cited in the specification], a quinolinecarboxylic ester (I) is characteristically reduced with an aluminum hydride complex in the presence of a secondary amine. - 特許庁

半導体集積回路用基板の製造工程における化学的機械的平坦化に用いられ、（Ａ）有機無機複合粒子、（Ｂ）キノリンカルボン酸又はその誘導体、（Ｃ）アミノ酸、及び（Ｄ）酸化剤を含有することを特徴とする金属用研磨液。例文帳に追加

The polishing solution for metal used for chemical mechanical planarization in the production process of a substrate for semiconductor integrated circuit contains (A) an organic/inorganic composite particles, (B) quinoline carboxylic acid or its derivative, (C) an amino acid, and (D) an oxidizing agent. - 特許庁