コンマ状部の英語

基板２１の搭載面３ａにシリコンマイクチップ５のダイヤフラム１５を対向させた状態で、シリコンマイクチップ５の支持部１１がシリコーン系熱硬化性樹脂２９によって基板２１の搭載面３ａに貼り付けられているシリコンマイクパッケージ１を提供する。例文帳に追加

In the silicon microphone package 1, the support section 11 of the silicon microphone chip 5 is attached on the mounting surface 3a of the substrate 21 by a silicon thermosetting resin 29 in such a state that a diaphragm 15 of the silicon microphone chip 5 faces to the mounting surface 3a of the substrate 21. - 特許庁

コンマロール１４の内部に螺旋状の加熱空間３２を軸方向に沿って設け、その加熱空間３２内部に加熱された液体を流し、コンマロール１４を均一に加熱する。例文帳に追加

A spiral heating space 32 is formed in the axial direction in the comma roll 14, and heated liquid is supplied into the heating space 32 to heat the comma roll 14 uniformly. - 特許庁

そして、犠牲酸化膜２９をエッチングして、表面膜１１をシリコン基板２との間に中空部分を有する状態で支持される中空支持膜とすることにより、シリコンマイク１を得る。例文帳に追加

Then the sacrificial oxide film 29 is etched to make the surface film 11 into a hollow support film supported having a hollow part between with the silicon substrate 2, thereby obtaining a silicon microphone 1. - 特許庁

被成膜基板に対して所定パターンを有する薄膜を形成するためのシリコンマスクＭが、シリコン基材Ｓ上に、所定パターンに対応する開口部２０と、開口部２０を形成する際の形成状態を検知可能な検知部１５と、を備える。例文帳に追加

The silicon mask M for depositing a thin film having a prescribed pattern for a substrate to be formed with the film has an opening 20 corresponding to the prescribed pattern and a detection section 15 where the forming state when forming the opening 20 is detectable on a silicon base material S. - 特許庁