サイアロンセラミックの英語

ラッピング加工方法は、窒化ケイ素セラミックスやサイアロンセラミックスよりなる球状の加工サンプル７の表面を砥石２ａ、３ａによりラッピング加工する球体のラッピング加工方法であって、砥石２ａ、３ａは加工サンプル７よりも高硬度の砥粒を含んでいる。例文帳に追加

The lapping method is a lapping method of a spherical body, in which a lapping is performed, by grinding stones 2a and 3a, for the surface of a spherical machining sample 7 made of silicon nitride ceramics and sialon ceramics and the grinding stones 2a and 3a include abrasive grains having hardness higher than that of the machining sample 7. - 特許庁

サイアロンセラミックスであって、平均粒径Ｐ_ｓ＝５００ｎｍ以下のＳｉ_３Ｎ_４と、平均粒径Ｐ_ｓ＝３００ｎｍ以下のＡｌ_２Ｏ_３と、平均粒径Ｐ_ｓ＝１μｍ以下のＡｌＮからなる出発原料より構成され、焼結体のβ−ＳｉＡｌＯＮとしての相対密度が９５％以上であるものとする。例文帳に追加

The sialon ceramic is constituted of a starting raw material comprising Si_3N_4 having average particle diameter Ps=≤500 nm, Al_2O_3 having average particle diameter Ps=≤300 nm and AlN having average particle diameter Ps=≤1 μm and the relative specific gravity of a sintered compact as β-SiAlON is ≥95%. - 特許庁

焼鈍された金属ストリップをワークロールを用いて伸び率で０．４〜１．０％の調質圧延をする調質圧延機において、前記ワークロールの表面粗度が２．０〜８．０μｍＲａで、ワークロール径が２００〜４００ｍｍであることを特徴とする調質圧延機、ならびに前記ワークロールの材質がサイアロンセラミックスまたはジルコニアセラミックスであることを特徴とする前記構成の調質圧延機。例文帳に追加

The temper mill with which an annealed metal strip is temper-rolled at the elongation percentage of 0.4-1.0% by using work rolls, includes the work rolls in which the surface roughness is 2.0-8.0 μmRa, the diameter is 200-400 mm and the material is Sialon ceramic or zirconia ceramic. - 特許庁

被研磨材である窒化ケイ素セラミックスあるいはサイアロンセラミックスのトライボケミカル反応による研磨を行うための研磨材料であって、当該研磨材料は、セラミックス焼結体で構成されており、その焼結体の粒界、粒内、気孔の１種類以上の部分に上記被研磨セラミックスを溶解反応させる元素を含むことを特徴とする上記研磨材料、及びその製造方法。例文帳に追加

In this abrasive material for grinding with a tribologic chemical reaction of silicon nitride or sialon ceramics as a material to be ground and in the manufacturing method thereof, the abrasive material is formed of a ceramic sintered compact, and at least one kind of intergranular part, inner granular part and holes of the sintered compact contains an element for dissolving the ceramics to be ground for reaction. - 特許庁