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シャワー単位の英語
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英訳・英語 shower unit
「シャワー単位」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 4件
上部電極4に取り付けた反応ガス供給用シャワーノズルの単位面積当たりの数をウェハ面内で変化させる。例文帳に追加
The number of the reaction gas supplying shower nozzles, attached to the upper electrode 4 per unit area, is changed in the plane of a wafer 16. - 特許庁
シャワープレートに配置するガス放出孔の単位面積あたりの配置数を、シャワープレート中心から離れるに従って増加させる、もしくは、ガス放出孔の孔半径をシャワープレート中心から離れるに従って増加させることにより、プラズマ励起ガス流を均一にし、これによって、被処理基板の均一処理を可能にする。例文帳に追加
The plasma excitation gas flow is uniformed by increasing the number of gas discharging holes per unit area arranged in a shower plate with progression away from the center of the shower plate, or alternatively, by increasing the hole radius of the gas discharging hole with progression away from the center of the shower plate, whereby uniform processing of the substrate to be processed is enabled. - 特許庁
また、シャワーヘッド43の噴出孔431の単位面積当たりの孔数は面内で等しくなるように分布させ、噴出孔431の孔径はすべて同じとなるように加工してガス噴出量をほぼ均一とする。例文帳に追加
The gas ejection holes 431 are distributed such that the number of holes per unit area will be constant in the plane and the diameter of all ejection holes 431 is made identical thus making substantially uniform the gas ejection quantity. - 特許庁
中央部よりも外縁部の方が単位面積当たりのガス穴33の開口面積が大きくなるように構成されたシャワーヘッド32を、透過窓23のすぐ下にウエハWと対向するように設ける。例文帳に追加
A shower head 32 constituted, so that the opening area of a gas hole 33 per unit area can be made larger at the outer edge than the central part is arranged directly under a transparent window 23 so as to be faced to a wafer W. - 特許庁
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