超高純金属の英語

金属成分が１０重量ｐｐｔ未満に低減された超高純度硫酸の製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a method for producing ultrahigh purity sulfuric acid in which metal components were reduced to amounts of <10 wt.ppt. - 特許庁

望ましくない金属及び金属イオン汚染物を本質的に有しない超高純度１，２−ジアミノシクロヘキサン−テトラ酢酸の製造法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing ultra-high purity 1, 2-diaminocyclohexane-tetraacetic acid essentially free from undesired metal or metallic ion contaminants. - 特許庁

熱電変換材料、着色顔料、超伝導材料などの幅広い分野での応用が期待されている、２種類以上の金属を含む複合金属硫化物の、均一で、純度が高い製造方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for producing a homogeneous and high purity composite metal sulfide containing two or more kinds of metals and being expected to be applied in wide fields such as a thermoelectric conversion material, a coloring pigment, a superconducting material and the like. - 特許庁

反応温度を４０〜９０℃の間とすることにより、含有不純物金属が極めて少ない（ストロンチウム及びマグネシウムの濃度が、各々0.1質量ｐｐｍ以下の）超高純度の炭酸カルシウムが得られる。例文帳に追加

Ultrahigh purity calcium carbonate containing very little impurity metal and where the concentrations of strontium and magnesium are each 0.1 ppm or less by mass is obtained at the reaction temperature of 40-90°C. - 特許庁

このようにすることで、超高純度原料２ａと高純度原料２ｂとを併用しても成長するＳｉＣ単結晶４への金属不純物の混入を少なくでき、ＳｉＣ単結晶４の成長初期に所望の結晶形以外の異種多形になることを防止できる。例文帳に追加

This can minimize the incorporation of metallic impurities into the growing SiC single crystal 4 even when the super-high purity raw material 2a and the high purity raw material 2b are used together, thereby capable of preventing the single crystal from taking different polymorphic crystal forms other than a desired crystal form in the initial period of growth of the SiC single crystal 4. - 特許庁

二次純水製造装置の給水ポンプ、熱交換器、ＵＶ照射装置等を構成する金属材料から発生した金属のコロイドや微粒子による水質低下の問題がなく、残留イオン濃度１０ｎｇ／Ｌ以下の高水質の超純水を安定に得ることができる二次純水製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a secondary pure water making apparatus not lowering water quality by metalic colloids or fine particles generated from a metalic material constituting a feed water pump, a heat exchange, or an UV irradiator or the secondary pure water making apparatus and capable of stably obtaining ultrapure water of high quality with a residual ion concentration of 10 ng/L or less. - 特許庁

ＣＶＤ法によるハフニウム含有金属酸化物膜を形成するための原料として、ハフニウム錯体Ｈf(ＤＰＭ)_4を超高純度で再現性良く製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for producing a super high purity hafnium complex Hf (DPM)_4 with good repeatability that is a raw material to form a hafnium-containing metal oxide film by a CVD method. - 特許庁

ＣＶＤ法によってジルコニウム含有金属酸化物膜を形成するための原料として、ジルコニウム錯体Ｚr(ＤＰＭ)_2(i−Ｃ_3Ｈ_7Ｏ)_2を超高純度で再現性良く製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method for producing a super high purity zirconium complex Zr(DPM)_2(i-C_3H_7O)_2 with good repeatability that is a raw material to form a zirconium containing metal oxide film by a CVD method. - 特許庁