デバイスの微細化の英語

デバイスの高密化が進展し、０．１ミクロン以下の微細加工がなされても、結晶性に左右されない有機物を用いたデバイスを作製することで、高集積化されたデバイスを提供する。例文帳に追加

To provide a highly integrated device by manufacturing the device using an organic substance independent of crystallinity even when subjected to fine processing of below 0.1 micron associated with the advance of the high density of devices. - 特許庁

近年の半導体デバイスのさらなる微細化に対応し得るパターン微細化用被覆剤、及びそれを用いた微細パターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a coating for making fine a pattern that corresponds to recent further miniaturization of a semiconductor device, and to provide a method of forming a fine pattern that uses the coating. - 特許庁

半導体デバイスが微細化しパターンの段差が増大した場合でも、段差被覆性を高くできる窒化シリコン膜の成膜方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a silicon nitride film in which a step coating can be improved even when a semiconductor device is miniaturized with more steps in a pattern. - 特許庁

ＲＦデュアルバンドデバイスとして用いられ、微細化と高性能化をともに実現することが可能な電界効果型トランジスタを提供する。例文帳に追加

To provide a field-effect transistor which is used as an RF dual-band device and has both a microstructure and higher performance. - 特許庁

デバイス特性の向上を図るとともにさらなる微細化に対応可能な半導体装置の製造方法を得ること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of improving a characteristic of the device and responding to the downsizing requirement. - 特許庁

メモリ状態を変化させるために必要な電力を低減し、より微細な各選択デバイスの使用を可能とするメモリセルの提供。例文帳に追加

To provide a memory cell reducing required power for changing a memory state and capable of using a further fine selection device. - 特許庁

マスクパターンの投影像の転写位置を高精度化し、スループットを向上させつつより微細な半導体デバイスを製造する。例文帳に追加

To manufacture a finer semiconductor device by transfer position of the projected image of a mask pattern with high degree of accuracy and by improving the throughput. - 特許庁

製作が容易で、熱吸収を効率化する複数の冷却デバイスを備えた冷却用微細回路を提供する。例文帳に追加

To provide a cooling micro circuit easily manufacturable and having cooling devices for enhancing the efficiency of heat absorption. - 特許庁