トポグラフィーの英語

ナノトポグラフィーが許容の範囲内に入るまでピッチ幅ｐを変更し計算を繰り返す。例文帳に追加

Pitch width (p) is varied and the calculation is repeated until the nanotopography enters a permissible range. - 特許庁

ナノトポグラフィー装置を較正及び検査するための標準体及び該標準体の製造方法例文帳に追加

STANDARD BODY FOR CALIBRATION AND INSPECTION OF NANOTOPOGRAPHIC APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR STANDARD BODY - 特許庁

露光装置は、トポグラフィー計測デバイスと、パターニング用デバイスPDと、補正システムCSとを備える。例文帳に追加

An exposure device is equipped with a topography measurement device, a patterning device PD, and a correction system CS. - 特許庁

半導体ウエーハ表面のナノトポグラフィーの評価方法及び評価装置並びに表面のナノトポグラフィーが良好な半導体ウエーハの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an evaluation method of nano topography on the surface of a semiconductor wafer, an evaluation system, and a manufacturing method of a semiconductor wafer wherein the surface of the nano topography is favorable. - 特許庁

前面及び背面の「オートドーピング」、「ハロー」及び不利なナノトポグラフィーを十分に回避することができるサセプタの提供。例文帳に追加

To provide a susceptor that can fully avoid "auto doping", "halo" and disadvantageous nano topography on the front and the back. - 特許庁

本発明は、装置に使用されるパッド・ホルダ及び隆起残余トポグラフィーを備える半導体基板を研磨する方法にさらに関連する。例文帳に追加

This invention further relates to a pad holder used in the device and a method for polishing a semiconductor substrate including a protruding residual topography. - 特許庁

直接光の影響を効果的に低減できるＦＺＰ拡大法によるトポグラフィー測定装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a topography measurement device using an FZP expansion method capable of reducing influence of direct light effectively. - 特許庁

補正システムCSは、トポグラフィー計測デバイスにより得られた情報に基づいて、少なくとも１つの機械要素の機械的特性を補正する。例文帳に追加

The correction system CS corrects a mechanical property of at least one mechanical element on the basis of information obtained by the topography measurement device. - 特許庁