パターンシミュレーションの英語

パターンシミュレーション方法、そのプログラム、そのプログラムを記録した媒体、およびその装置例文帳に追加

PATTERN SIMULATION METHOD, PROGRAM THEREFOR, MEDIUM RECORDED WITH THE PROGRAM, AND APPARATUS THEREFOR - 特許庁

パターンシミュレーション方法、その装置、そのプログラムおよびこれを記録した媒体例文帳に追加

PATTERN SIMULATING METHOD, DEVICE, AND PROGRAM, AND MEDIUM RECORDING THIS PROGRAM - 特許庁

レチクルデータおよび露光用データの設計ミスを容易に発見できるパターンシミュレーション方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern simulation method for easily detecting a designing mistake in reticle data and exposure data. - 特許庁

基板パターンと予想パターンとの比較演算を高速化できるパターンシミュレーション方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern simulation method in which comparison operation between a substrate pattern and a prediction pattern can be made fast. - 特許庁

基板パターンを予想した予想パターンとの比較の際の多重露光領域でのパターンの大きさの相違に起因するエラーの発生を抑制したパターンシミュレーション方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern simulating method reducing the errors caused by the pattern size differences in the multiple exposure area when comparing the substrate pattern with an expected pattern. - 特許庁

設計パターンとの比較を高速化できるとともに設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できるシミュレーションパターンを作成可能なパターンシミュレーション方法を提供する。例文帳に追加

To create a simulation pattern that can be compared with a design pattern at higher speeds and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern. - 特許庁

基板パターンの複数回のシミュレーションを要する場合の処理時間を短縮できるとともに、処理のデータ量を低減できるパターンシミュレーション方法を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern simulation method by which a process time can be reduced, when a plurality of times of simulations are needed for a substrate pattern and the data amount for the process can be decreased. - 特許庁

本ＯＰＣ方法は、マスクパターンを被転写物に転写して得られるパターンをシミュレーションにより予測し、シミュレーションの予測パターン（シミュレーション値）と、マスクパターンを前記被転写物に実際に転写して得られる実パターンとの差からシミュレーション誤差ΔＦを求める。例文帳に追加

The OPC method predicts the pattern obtained by transferring a master pattern to an object to be transferred through a simulation and determines a simulation error ΔF from the difference between the prediction pattern (a simulation value) of the simulation and the actual pattern obtained by actually transferring the master pattern to the object to be transferred. - 特許庁