パターン欠けの英語

当該ナノインプリントモールドは、基板１と、上記基板表面に形成された微細パターン２と、上記基板表面かつ上記微細パターン２の近傍に形成され、目的とするパターン形状の形成に寄与せず、洗浄時に生じる上記微細パターンの欠けを防止する欠け防止パターン３とを有する。例文帳に追加

The nanoimprint mold comprises a substrate 1, the fine pattern 2 formed on the surface of the substrate, and a chip preventing pattern 3 which is formed on the surface of the substrate and in a vicinity of the fine pattern 2, does not contribute to the formation of the pattern shape to be intended, and prevents the fine pattern from being chipped occurred in cleaning. - 特許庁

現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、しかも現像性にも優れ、線幅のバラツキや欠け、断線のない正確なパターン形成が可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。例文帳に追加

To provide a pattern forming material having good scratch resistance in a developer, excellent in resolution and tenting property, excellent also in developability, and realizing formation of an accurate pattern free from variation in line width, a chip and disconnection, and to provide a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material. - 特許庁

繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。例文帳に追加

To detect defects even in incomplete unit patterns, in which parts of a pattern are absent in defect inspection for detecting defects present in the surfaces of samples, by comparing corresponding parts with one another of unit patterns which repeatedly appear in correspondence, to repeated patterns in inspection images acquired by imaging the surfaces of the samples in which the repetitive patterns are formed. - 特許庁

カラーフィルタにおける緑色着色パターンの形成に用いられ、その形成の際に、硬化性に優れ、現像ラチチュードが大きく、更には、現像時のパターン欠けが抑制され、且つ、耐薬品性に優れた緑色着色パターンを形成しうる着色感光性組成物を得ること。例文帳に追加

To obtain a colored photosensitive composition which is used to form a green colored pattern in a color filter, has excellent curability and a large development latitude in the formation, reduces pattern defects in development, and forms a green colored pattern having excellent chemical resistance. - 特許庁

現像時に現像残渣やパターンエッジのスカムを生じることがなく、低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも微細なパターンを与えうる着色層形成用感放射線性組成物等を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation and the like which generate neither development residue nor scum on a pattern edge in development, cause neither chipping of a pattern edge nor undercut even with a low exposure amount, and can give a fine pattern. - 特許庁

低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能である新規な感放射線性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a new radiation-sensitive composition which forms a fine pattern without causing chipping and undercut of a pattern edge even with a small amount of light exposure or generating undissolved residues and scum on a pattern edge in development. - 特許庁

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a pattern forming method, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enable formation of a pattern which is superior in the depth of focus (DOF) and in roughness characteristics and having few bridge defects and few chips. - 特許庁

現像時に未溶解物の残存やパターンエッジのスカムの生成がなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じない着色層を与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which avoids remaining of undissolved matter and scumming on a pattern edge in development and provides a colored layer free from chipping of a pattern edge and undercut even under low exposure energy. - 特許庁