本発明のエッチング方法は、シリコンカーバイド基板とサファイアガラス窓部材との間にフッ化水素酸を含有する薄液層を介在させ、前記サファイアガラス窓部材側から前記シリコンカーバイド基板に向けてＸｅ_2^*エキシマランプ光とＡｒＦレーザー光とを照射することにより前記シリコンカーバイド基板の表面の少なくとも一部を除去することを特徴とする。例文帳に追加

The etching method comprises forming a thin liq. layer contg. hydrofluoric acid between a silicon carbide substrate and a sapphire glass window member, and irradiating the silicon carbide substrate with an Xe2* excimer lamp beam and an ArF laser beam from the sapphire glass window member, thereby removing at least a part of the surface of the silicon carbide substrate. - 特許庁

例文

紫外線波長域のレーザー光を照射する際に使用される合成石英ガラス光学部材の製造方法であって、ガラス形成原料を火炎加水分解して形成した多孔質石英ガラス体を水素または酸素含有雰囲気下で高温処理した後、該多孔質石英ガラス体をフッ素含有雰囲気下で加熱，焼結して透明ガラス化することを特徴としている。例文帳に追加

This method for producing a synthesized silica glass optical member to be applied in irradiating laser beams of ultraviolet region is characterized by treating a porous silica glass body at high temperature in an atmosphere containing hydrogen or oxygen wherein the porous glass is obtained by flame hydrolysis of a glass forming material and, thereafter, heating and sintering the porous silica body to transparently vitrify it in an atmosphere containing fluorine. - 特許庁