フルオロカーボン系の英語

下地材料にフルオロカーボン系の側鎖を含まなければ、下地材料はアルゴンイオンでエッチングされることはなく、フルオロカーボン系の側鎖を含むシリコン酸化膜のエッチング選択比が顕著に向上できる。例文帳に追加

When the substrate material of the silicon oxide film does not contain any fluorocarbon-based side chain, the substrate material is not etched by the argon ions and the etch selectivity of the silicon oxide film containing the fluorocarbon-base side chain is remarkably improved. - 特許庁

ハイドロフルオロカーボン系の冷媒を用いた冷凍装置において、ハイドロフルオロカーボンと相互溶解性のない冷凍機油を用いても、確実にコンプレッサに返油できるようにする。例文帳に追加

To securely return oil to a compressor even when using refrigerating machine oil without mutual solubility with hydrofluorocarbon in a refrigerating device using a hydrofluorocarbon-family refrigerant. - 特許庁

陽極１２上に成膜される正孔注入層１３がフルオロカーボン系薄膜からなる有機ＥＬ素子であって、前記フルオロカーボン系薄膜の封止キャップ２０に近接する側の一辺または複数辺の領域が除去されてなる有機ＥＬ素子１０。例文帳に追加

The organic EL element with its hole injection layer 13 formed on a positive electrode 12 composed of a fluorocarbon system thin film is made by removing regions at one or a plurality of sides adjacent to a sealing cap 20 of the fluorocarbon system thin film. - 特許庁

ハイドロフルオロカーボン系の冷媒を用いた冷凍装置において、コンプレッサの低回転数連続運転を行う必要がある場合にも、ハイドロフルオロカーボンと相互溶解性のない冷凍機油を、確実にコンプレッサに返油できるようにする。例文帳に追加

To return freezer oil with no mutual solubility with hydrofluorocarbon to a compressor without fail, even in case there is necessity to perform the low-revolution continuous operation of the compressor in a freezer using a hydrofluorocarbon refrigerant. - 特許庁

成分（Ａ) ：特定構造のフッ素系リン酸エステル又はその塩 成分（Ｂ) ：シリコーン化合物、シラン化合物及び／又はパラフィンワックス 溶剤（Ｃ) ：置換水素原子を有する脂肪族フルオロカーボン類及び／又は置換 水素原子とエーテル性の酸素原子とを有するフルオロカーボン類のフッ素系溶剤例文帳に追加

The component (A): fluorophosphate ester of a specific constitution or its salt, the component (B): a silicone compound, a silane compound and/or paraffin wax and the solvent (C): fluorosolvents of aliphatic fluorocarbons having a substituted hydrogen atom and/or fluorocarbons having the substituted hydrogen atom and an oxygen atom bonded with ether. - 特許庁

銅の上に配されたシリコン窒化膜をフルオロカーボン系ガス及び不活性ガスとを含む混合ガスを反応ガスとしてドライエッチングするに際し、フルオロカーボン系ガスがＣＦ_4とＣＨＦ_3とを３：７〜０：１の流量比、或いはＣＦ_4とＣＨ_2Ｆ_2とを２．５：１〜０：１の流量比で含むことを特徴とする。例文帳に追加

At dry etching of a silicon nitride film deposited on copper using a mixture gas containing a fluorocarbon based gas and an inert gas as a reaction gas, the fluorocarbon based gas contains CF4 and CHF3 at a flow rate ratio of 3:7 to 0:1 or CF4 and CH2F2 at a flow rate ratio of 2.5:1 to 0:1. - 特許庁

成分（Ａ）：特定構造のフッ素系リン酸エステル又はその塩、成分（Ｂ）：シリコーン化合物、シラン化合物及び／又はパラフィンワックス、溶剤（Ｃ）：置換水素原子を有する脂肪族フルオロカーボン類及び／又は置換水素原子とエーテル性の酸素原子とを有するフルオロカーボン類のフッ素系溶剤。例文帳に追加

The component (A) is fluorophosphate ester of specific structure or its salt, the component (B) is a silicone compound, a silane compound and/or paraffin wax, and the solvent (C) is a fluorine-based solvent of aliphatic fluorocarbons having a substituted hydrogen atom and/or fluorocarbon having the substituted hydrogen atom and an ether-based oxygen atom. - 特許庁

溶媒組成物の１〜９０重量％のハイドロフルオロエーテルと、溶媒組成物の１〜９０重量％のパーフルオロカーボンおよび／またはハイドロフルオロカーボン、とを含む溶媒組成物（ただし、さらに前記溶媒組成物にベンゾトリフルオライド類を含む場合であっても、ベンゾトリフルオライド類は前記溶媒組成物の５０重量％を超えては含まれない）、およびフッ素系添加剤、を含むフッ素系組成物。例文帳に追加

The fluorine-based composition contains a solvent composition comprising 1-90 wt.% hydrofluoroether and 1-90 wt.% perfluorocarbon and/or hydrofluorocarbon based on the solvent composition (with the proviso that even if benzotrifluorides are contained in the solvent composition, the content of the benzotrifluorides does not exceed 50 wt.% of the solvent composition), and the fluorine-based additive. - 特許庁