ブラッグ回折の英語

光ファイバブラッグ回折格子反射光の波長測定方法例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING WAVELENGTH OF LIGHT REFLECTED BY OPTICAL FIBER BRAGG'S DIFFRACTION GRATING - 特許庁

Ｘ線回折に対するブラッグ角２６．４度に回折ピークを有する。例文帳に追加

The gallium phthalocyanine compound has a diffraction peak at a Bragg angle of 26.4° to X-ray diffraction. - 特許庁

測定光が入射される光ファイバに一以上のブラッグ回折格子が形成され、各ブラッグ回折格子からの反射光の波長を検出して各ブラッグ回折格子の位置における物理量を測定する物理量測定システムに関する。例文帳に追加

This is a physical measurement system which has more than one Bragg diffraction grating formed in an optical fiber where a measurement light is made incident and detects the wavelengths from the reflected lights from the Bragg diffraction gratings to measure physical quantities at the positions of the Bragg diffraction gratings. - 特許庁

測定光が入射される光ファイバに一以上のセンサ用ブラッグ回折格子が形成され、前記センサ用ブラッグ回折格子からの反射光の波長を検出して前記センサ用ブラッグ回折格子の位置における物理量を測定する物理量測定システムに関する。例文帳に追加

This a physical quantity measurement system which has more than one Bragg diffraction grating for sensor formed in an optical fiber where a measurement light is made incident and detects the wavelength of the reflected light from the Bragg diffraction grating to measure physical quantities at the position of the Bragg diffraction grating. - 特許庁

測定光が入射される光ファイバに一以上のブラッグ回折格子が形成され、各ブラッグ回折格子からの反射光の波長を検出して各ブラッグ回折格子の位置における物理量を測定する物理量測定システムに適用される。例文帳に追加

This instrument is applied to a physical quantity measurement system which has more than one Bragg diffraction grating formed in an optical fiber on which a measurement light is made incident and detects the wavelength of the reflected light from each Bragg diffraction grating to measure physical quantities at the position of the Bragg diffraction grating. - 特許庁

光導波路１６ｃは、ブラッグ回折格子１６ａが光学的に結合されている。例文帳に追加

The Bragg diffraction grating 16a is optically coupled with the optical waveguide 16c. - 特許庁

ファイバグレーティング１６は、ブラッグ回折格子１６ａおよび光導波路を有する。例文帳に追加

The fiber grating 16 has a Bragg diffraction grating 16a and an optical waveguide. - 特許庁

ブラッグ回折格子形成用位相マスク及びそれを用いて製造した光ファイバ例文帳に追加

PHASE MASK TO FORM BRAGG DIFFRACTION GRATING AND OPTICAL FIBER MANUFACTURED BY USING THE PHASE MASK - 特許庁