プッシャ-ピンの英語

処理時、プッシャピン２５は絶縁体２５を介して台座１４から吊り下げられて電気的に浮いた状態であり、処理終了後、被処理体４を突き上げるときのみプッシャピン２５にプッシャピンを昇降させる接地された昇降プレート２９が接して接地する。例文帳に追加

The pusher pin 25 is suspended from a base 14 through an insulator 28 in an electrically floating condition during processing, and a grounded elevating plate 29 to elevate the pusher pin 25 is brought into contact with it for grounding only when the processing object 4 is pushed up after completion of a processing. - 特許庁

静電吸着力によって被処理体を可動式試料台に保持させる静電吸着膜を備えた処理装置において、被処理体突き上げ時にプッシャピンによる被処理体の電荷除去機能を有したまま、プッシャピンと被処理体に生じる異常放電を防止する。例文帳に追加

To prevent an abnormal discharge generated in a pusher pin and a workpiece, with the charge-eliminating function of the workpiece still activated by the pusher pin when pushing up the workpiece, in a plasme processing apparatus with an electrostatic absorptive film to hold the workpiece onto a movable sample stage by the aid of an electrostatic absorptive force. - 特許庁

偏心カム１０ｂには回転シャフト１１から偏心した位置に直立するプッシャピン１４が植設されており、メインアーム５のプッシャフレーム１側の摺接面（下面）に接触している。例文帳に追加

A pusher pin 14 erected at a position decentered from the rotational shaft 11 is planted in the eccentric cam 10b, and brought into contact with the slide contact surface (lower face) of the pusher frame 1 side of the main arm 5. - 特許庁

偏心カム１０ｂのプッシャピン１４は、回転シャフト１１が時計方向に回転すると、メインアーム５との摺接点がメインアーム５の支点軸５２ｂから離れる方向に移動する。例文帳に追加

When the rotational shaft 11 is rotated in a clockwise direction, the pusher pin 14 of the eccentric cam 10b is moved to a direction where its slide contact point with the main arm 5 is isolated from a support shaft 52b of the main arm 5. - 特許庁

試料台の貫通孔周辺の冷却ガス圧力の均一化を図ると共に、プッシャピンと試料台との温度差の発生を防止したプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus, which achieves uniformity of cooling gas pressure around a through-hole of a sample stage, and which prevents the generation of a temperature difference between a pusher pin and the sample stage. - 特許庁