ミクロインチの英語

基板支持面の中心にある被膜の少なくとも一部は、約８０から約２００ミクロインチ間の表面仕上げを有する。例文帳に追加

At least a portion of the coating centered on the substrate support surface has a surface finish between about 80 to about 200 micro-inches. - 特許庁

基板支持面２０４の中心にある被膜２１０の少なくとも一部は、約８０から約２００ミクロインチ間の表面仕上げを有する。例文帳に追加

At least a portion of the coating film 210 centered on the substrate support surface 204 has a surface finish of between about 80 to about 200 micro-inches. - 特許庁

一態様において、スパッタリングターゲットのスパッタリング表面をラッピングし、少なくとも約２５ミクロンの厚みを除去し、約４から約３２ミクロインチの表面粗さ平均を有するスパッタリング表面を得る。例文帳に追加

In one version, the sputtering surface of the sputtering target is lapped to remove a thickness of at least about 25 microns to obtain a sputtering surface having a surface roughness average of from about 4 to about 32 microinches. - 特許庁

他の実施形態において、基板支持体は、メッキ処理されたアルミニウム本体を含み、そのアルミニウム本体は、上部に基板を支持するように適合された本体の一部に、約８０から約２００ミクロインチの表面仕上げ処理部を有する。例文帳に追加

Alternatively, the substrate support includes a plated aluminum body, and the aluminum body has a surface finish treatment part between about 80 to about 200 micro-inches on a portion of the body adapted to support a substrate on its upper part. - 特許庁

他の実施形態において、基板支持体２００は、メッキ処理されたアルミニウム本体２０２を含み、そのアルミニウム本体２０２は、上部に基板１４０を支持するように適合された本体２０２の一部に、約８０から約２００ミクロインチの表面仕上げ処理部２１６を有する。例文帳に追加

In another embodiment, the substrate support 200 includes an anodized aluminum body 202 having a surface-finish 216 of between about 80 to about 200 micro-inches on a portion of the body 202 adapted to support a substrate 140 thereon. - 特許庁