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リテーニングリングの英語
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英訳・英語 retaining ring
「リテーニングリング」を含む例文一覧
該当件数 : 9件
化学的機械的研磨のためのリテーニングリングとそれの使用法例文帳に追加
RETAINING RING FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND ITS USAGE - 特許庁
リテーニングリングとロッド径との差がより大きくなることにより、公差はそれほど重要でなくなる。例文帳に追加
The tolerance becomes not so important by further enlarging a difference between the retaining ring and a rod diameter. - 特許庁
簡単な作業で各ベアリングのリング溝に各リテーニングリングを効率よくスムーズに装着できるようにする。例文帳に追加
To efficiently and smoothly install each of retaining rings in a ring groove of each of bearings with simple work. - 特許庁
リテーニングリングを、リンク側面の裏側に係合する肩部の大きさが増すように大きくしたスナップロッドシステムとする。例文帳に追加
A snap rod system is provided by enlarging the retaining ring so as to increase the size of a shoulder part engaging with the reverse side of a link side surface. - 特許庁
拡開工具を開口部15から挿入させて合口部を拡開させて第1及び第2ベアリング6,9を第1及び第2リテーニングリング12,14内に挿入する。例文帳に追加
An enlarging tool is inserted through the opening part 15 so as to enlarge the joint part, and a first and a second bearings 6 and 9 are inserted into the first and the second retaining rings 12 and 14. - 特許庁
ミッションケース3の第1及び第2嵌合孔11,13の第1及び第2リング溝11a,13aに第1及び第2リテーニングリング12,14を、その合口部を開口部15に望ませた状態で装着する。例文帳に追加
A first and a second retaining rings 12 and 14 are installed in a first and a second ring grooves 11a and 13a of a first and a second engagement holes 11 and 13 of a transmission case 3 in the state of making a joint part thereof opposite to an opening part 15. - 特許庁
第1ベルトモジュール、第2ベルトモジュールおよびピボットロッドからなるモジュラーベルトにおいて、最外側のリンク開口の直径及びリテーニングリングの直径に対する厳密な公差を必要せずにロッドが十分に保持され、かつ容易に分解出来るモジュラーベルトを提供する。例文帳に追加
To provide a modular belt easy in disassembling by sufficiently holding a rod without requiring a strict tolerance to a diameter of the outermost side link opening and a diameter of a retaining ring in a modular belt composed of a first belt module, a second belt module and a pivot rod. - 特許庁
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「リテーニングリング」を含む例文一覧
該当件数 : 9件
プライマリーシャフト4及びセカンダリーシャフト7(第1回転軸及び第2回転軸)を軸方向に移動させて第1及び第2ベアリング6,9の第1及び第2リング溝6c,9cに第1及び第2リテーニングリング12,14を装着する。例文帳に追加
A primary shaft 4 and a secondary shaft 7 (a first rotary shaft and a second rotary shaft) are moved in the axial direction, and the first and the second retaining rings 12 and 14 are installed in a first and a second ring grooves 6c and 9c of the first and the second bearings 6 and 9. - 特許庁
化学的機械的平坦化(CMP)装置において、キャリア134とメンブレン170を有しターンテーブルの研摩パッド上に位置するポリシングヘッド130は、マニホールド132と、リテーニングリング140と、キャリア134内の中央部に設けられるサポータ150と、キャリア134とサポータ150との間に位置するチャッキングリング160とを有する。例文帳に追加
In a chemical mechanical planarization(CMP) apparatus, a polishing head 130, that has a carrier 134 and a membrane 170 and is positioned on the polishing pad of a turntable, is equipped with a manifold 132, a retaining ring 140, a supporter 150 provided at a center section in the carrier 134, and a chucking ring 160 positioned between the carrier 134 and a supporter 150. - 特許庁
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