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レジストの解像力の英語
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英訳・英語 resolving power of resist
「レジストの解像力」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 139件
レジストについて露光波長の解像力の解像限界より余裕をもったパターン露光を行い、その後該レジスト又はレジストにより形成されたマスク材料を等方性エッチングを用いて処理することにより、前記露光波長の解像力の解像限界よりも微細なパターニングを行う。例文帳に追加
(2) The resist is patternwise exposed with an allowance for the resolution limit of the resolving power of wavelength of exposing light and this resist or a mask material formed from the resist is treated by isotropic etching to carry out patterning finer than the resolution limit. - 特許庁
感度、解像力などのレジスト諸特性に優れ、レジストパターン表面上の異物の発生及び定在波を抑制可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive resist composition which is excellent in the various characteristics of a resist such as sensitivity and resolution and which can suppress production of foreign matter and standing waves on the surface of a resist pattern. - 特許庁
ラインエッジラフネスが改善され、更に感度、解像力、レジスト形状及び焦点深度などのレジスト諸特性にも優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive photoresist composition for exposure with far UV giving improved line edge roughness and excellent also in various characteristics as a resist such as sensitivity, resolving power, resist shape and the depth of a focus. - 特許庁
ラインエッジラフネスが改善され、更に感度、解像力、レジスト形状及び焦点深度などのレジスト諸特性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive type photoresist composition which is improved in line edge roughness and excellent in resist properties such as sensitivity, resolution, resist pattern, and the depth of focus. - 特許庁
ラインエッジラフネスが改善され、更に感度、解像力、レジスト形状及び焦点深度などのレジスト諸特性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive photoresist composition ensuring improved line edge roughness and excellent in various characteristics as a result, e.g. sensitivity, resolving power, resist shape and focal depth. - 特許庁
ラインエッジラフネスが改善され、更に感度、解像力、レジスト形状及び焦点深度などのレジスト諸特性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive photoresist composition which ensures improved line edge roughness and is excellent also in various resist characteristics such as sensitivity, resolving power, resist shape and focal depth. - 特許庁
解像力等の諸機能に優れた化学増幅型の感放射線性ポジ型レジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a chemical amplification type radiation sensitive positive type resist composition excellent in various functions such as resolving power. - 特許庁
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「レジストの解像力」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 139件
半導体デバイスの製造において解像力に優れ、パーティクル、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive photoresist composition excellent in resolving power and ensuring few particles and few development defects in the production of a semiconductor device. - 特許庁
基板に塗布した厚いレジストの膜厚むらにより生じる原版と基板との接触性不良を改善し、解像力を上げる。例文帳に追加
To increase resolution by improving contact inferiority between an original plate and a substrate caused by film thickness unevenness in a thick resist applied onto the substrate. - 特許庁
高現像性かつ高解像力でカラーフィルターを製造することのできるブラックレジスト組成物の製造法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for manufacturing a black resist composition that can manufacture a color filter of high developing properties and high resolution. - 特許庁
高感度及び高解像力を両立させることのでき、且つ孤立性能に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加
To provide a negative resist composition capable of ensuring both high sensitivity and high resolving power and excellent in isolation performance. - 特許庁
限界解像力、現像欠陥、リニアリティ及びドライエッチング耐性の４点で良化したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive type photoresist composition having improved marginal resolving power, development defects, linearity and dry etching resistance. - 特許庁
感度、解像力に優れ、しかも矩形なプロファイルが得られる電子線又はＸ線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物の開発である。例文帳に追加
To provide a negative type chemical amplification type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power and giving a rectangular profile. - 特許庁
限界解像力、現像欠陥及びリニアリティの３点で良化したポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive photoresist composition having improved marginal resolving power, development defects and linearity. - 特許庁
本発明は、高感度、高解像力及びラインエッジラフネスの優れたネガ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加
To provide a negative resist composition having high sensitivity, high resolving power and excellent line edge roughness. - 特許庁
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resolving power of resist
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